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ZEEnit650P品牌
analytik jena耶拿產(chǎn)地
德國(guó)樣本
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ZEEnit 650P 帶塞曼背景校正功能的石墨爐原子吸收光譜儀
可實(shí)現(xiàn)石墨爐和氫化物技術(shù)的塞曼AAS,具有強(qiáng)大的分析能力
ZEEnit系列原子吸收光譜儀是為復(fù)雜基體樣品的常規(guī)分析而設(shè)計(jì)的。 該系統(tǒng)結(jié)合了獨(dú)特的石墨爐概念、強(qiáng)大的塞曼背景校正以及可變磁場(chǎng)強(qiáng)度的技術(shù)亮點(diǎn)。
可變磁場(chǎng)強(qiáng)度(2磁場(chǎng)/3磁場(chǎng)和動(dòng)態(tài)模式)提供**靈敏度和擴(kuò)展線性工作范圍
智能預(yù)編程功能,自動(dòng)校準(zhǔn)和自動(dòng)樣品稀釋,以及多樣化的配件,**限度地提高生產(chǎn)率,極高的安全性和用戶友好性
可擴(kuò)展使用固體進(jìn)樣器直接分析固體樣品
強(qiáng)大的塞曼技術(shù)
原子吸收光譜法是一種廣泛用于測(cè)定痕量到主量范圍的元素的技術(shù)。 其特殊的挑戰(zhàn)是痕量分析,特別是分析復(fù)雜基體樣品中的有毒有害元素。 為了滿足這一要求,德國(guó)耶拿提供了可靠的ZEEnit系列原子吸收光譜儀,并采用了成熟的塞曼技術(shù)。這里使用的塞曼背景校正是*強(qiáng)大的原子吸收背景校正技術(shù)之一,能夠保證可靠的結(jié)果。ZEEnit 650 P和ZEEnit 700系列都是配備了橫向加熱高性能石墨爐的緊湊型光譜儀,塞曼背景校正系統(tǒng)的塞曼磁場(chǎng)可設(shè)置2磁場(chǎng) /3磁場(chǎng)和動(dòng)態(tài)磁場(chǎng),磁場(chǎng)強(qiáng)度可調(diào),從而獲得**的靈敏度和擴(kuò)展的工作曲線范圍。 此外,該系統(tǒng)還額外配備了強(qiáng)大的氘空心陰極燈背景校正系統(tǒng)。
ZEEnit 700系列的全自動(dòng)火焰模式,覆蓋了極寬的濃度范圍。 操作系統(tǒng)簡(jiǎn)單友好,許多過(guò)程皆為自動(dòng)化設(shè)計(jì)。 我們通過(guò)許多功能強(qiáng)大的組件實(shí)現(xiàn)這種高度自動(dòng)化,如8燈位的自動(dòng)切換燈架,用于使用編碼燈和超燈的RFID工具,具有智能化自動(dòng)稀釋功能的自動(dòng)進(jìn)樣器,以及緊湊設(shè)計(jì)的爐體等等。預(yù)置的典型應(yīng)用程序以及軟件中的快速啟動(dòng)功能,使常規(guī)應(yīng)用程序的快速啟動(dòng)成為可能。 獨(dú)特的AAS直接固體分析技術(shù)和ZEEnit石墨爐技術(shù)相結(jié)合,樣品無(wú)需消解即可測(cè)試,**程度地減少了樣品制備的工作量。
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2023年12月15-17日,以“藥物制劑新型工業(yè)化——?jiǎng)?chuàng)新 智能 科學(xué)監(jiān)管”為主題的2023年中國(guó)藥學(xué)會(huì)工業(yè)藥劑學(xué)大會(huì)在南京召開(kāi)。共分1場(chǎng)開(kāi)幕式主論壇、4場(chǎng)專題分論壇、1場(chǎng)專業(yè)委員會(huì)工作會(huì)議,圍繞新
2023年11月3日,英國(guó)羅維朋攜手東南科儀舉辦的PFXi系列全自動(dòng)色度儀用戶交流會(huì)取得圓滿成功。會(huì)議邀請(qǐng)了英國(guó)羅維朋國(guó)際銷售經(jīng)理Matt Boeck 先生、英國(guó)羅維朋產(chǎn)品經(jīng)理Matt Ru
環(huán)保節(jié)能:新款 KB ECO 和 KB 系列的其他培養(yǎng)箱一樣,這款產(chǎn)品能溫和處理樣品,并且性能強(qiáng)大——但也有不同之處:新款低溫培養(yǎng)箱 KB ECO 系列更節(jié)能,并且更加環(huán)保。&nb
陰極銅是工業(yè)銅的一種,具有較優(yōu)良的導(dǎo)電性、導(dǎo)熱性、延展性、耐腐蝕性、耐磨性等特點(diǎn),常加工成銅線、銅棒、銅板帶、銅箔以及各類合金產(chǎn)品,廣泛應(yīng)用于電力、電子、交通設(shè)備、機(jī)械制造、建筑工業(yè)、國(guó)防工業(yè)、醫(yī)學(xué)、
背景介紹隨著半導(dǎo)體技術(shù)的進(jìn)步,設(shè)備微型化和集成化程度不斷提高,對(duì)制造環(huán)境的要求也越來(lái)越高。特別是在先進(jìn)工藝節(jié)點(diǎn)(如7nm、5nm及更小節(jié)點(diǎn))中,高TOC(總有機(jī)碳)水平可能導(dǎo)致晶圓表面污染
2024年,阿美特克-博勒飛推出了全新一代HPQA-Helipath 快速升降支架。鑒于新品使用過(guò)程中,用戶可能遇到的問(wèn)題或困惑,做一個(gè)概括性的Q&A。Q:HPQA上具有運(yùn)動(dòng)速度編輯功能嗎?最