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冷壁卷對卷連續(xù)生長石墨烯CVD設備
冷壁卷對卷連續(xù)生長石墨烯CVD設備

參考價格

面議

型號

RTR-CVD-500

品牌

貝意克

產(chǎn)地

安徽合肥

樣本

暫無
安徽貝意克設備技術有限公司

金牌會員

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第13年

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生產(chǎn)商

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該款設備是全自動收放卷連續(xù)生長石墨烯CVD設備,設備左右側配備移動小車供取放卷料,卷料通過放卷倉進入到反應區(qū)生長后,*終再進行收卷;實驗過程中通入液體或反應氣體參與生長;卷料通過一系列糾偏,張力,線速度檢測,過程牽引等裝置控制調(diào)節(jié),*終完整的進入尾部收卷倉。設備可通過觸摸屏一鍵操控,采用承重框架結合鈑金包圍形式。機架采用深灰色、門板等采用時尚橘紋白。設備簡約又不乏穩(wěn)重,更具備操作直觀方便、控溫精確等性能。


設備五大模塊:放卷倉、預熱區(qū)、反應區(qū)、冷卻區(qū)、收卷倉

1、放卷倉:

放卷倉左端配有移動小車供放置卷料,倉內(nèi)配有卷料固定的支架以及糾偏、張力、線速度檢測等裝置供運行中自行調(diào)整卷料運行狀態(tài);倉外側3面配有活動門供操作、檢修;同時封閉狀態(tài)下,可通過門上觀察窗和倉內(nèi)燈光觀察內(nèi)部機構運行狀態(tài)。設備外側預留有KF口可進行擴展;

2、預熱區(qū):

預熱區(qū)溫區(qū)長1000mm;上下面配有電阻絲加熱和熱電偶控溫,腔體內(nèi)側配有石墨板,腔體上方配有進氣管道,同時下方也預留有KF接口供后期加裝配件;設備前后側配有風冷,對殼體進行散熱。

3、反應區(qū):

反應區(qū)溫區(qū)長1000mm;上下面配有電阻絲加熱和熱電偶控溫,腔體內(nèi)側配有石墨板,腔體上方配有進氣管道(通反應氣體),同時下方也預留有KF接口供后期加裝配件;設備前后側配有風冷,對殼體進行散熱。前面板配有氣路組件供手動操作,殼體后部配有球閥控制的出氣口,同時配有分液器+蠕動泵裝置進行進液;

4、冷卻區(qū):

冷卻區(qū)溫區(qū)長1000mm;腔體為雙層水冷殼體,卷料經(jīng)冷卻區(qū)狹窄的腔道后冷卻到收卷倉。

5、收卷倉:

收卷倉右端配有移動小車供放置卷料,倉內(nèi)配有電阻檢測裝置以及糾偏、張力裝置供運行中自行調(diào)整卷料運行狀態(tài);倉外側3面配有活動門供操作、檢修;同時封閉狀態(tài)下,可通過門上觀察窗和倉內(nèi)燈光觀察內(nèi)部機構運行狀態(tài)。設備外側預留有KF口可進行擴展。


額定功率:92KW

額定電壓:380V

**可持續(xù)溫度:預熱區(qū)800℃、反應區(qū)1150℃

推薦升溫速率:≤10℃/min

加熱區(qū)長度:1000mm+1000mm+1000mm(預熱區(qū)+反應區(qū)+冷卻區(qū))

收卷寬幅:500、750、1000、1500mm(可選)

熱電偶:K型熱電偶

控溫方式:模糊PID控制和自動整定調(diào)節(jié),智能化30段可編程控制

控溫精度:±1℃

加熱元件:電阻絲

分液罐容積:10L(圓柱型)

蠕動泵:BT100S-DT15-44(四通道)

氣路:4路(混合)

進氣口:Φ6雙卡套

尾氣口:Φ65寶塔嘴

進出水接口:Φ16寶塔嘴

設備尺寸:長6135mm×寬2045mm×高2310mm

設備凈重:4噸

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10分

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10分

易用性

10分

性價比

10分
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碳納米管在5G物聯(lián)網(wǎng)時代的應用

后摩爾定律時代推動了碳基電子晶體管的快速發(fā)展。5G通信和云計算促進了基于碳納米管的場效應晶體管在電子設備中的應用。本文將重點關注碳基電子領域的最新研究熱點,包括高頻晶體管、生物醫(yī)學傳感器和制動器、腦機

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