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等離子體修飾系統(tǒng)，利用三溫區(qū)管式爐，通過(guò)氧氣輔助化學(xué)氣相沉積技術(shù)，在藍(lán)寶石襯底上外延生長(zhǎng)了大尺寸、高質(zhì)量的單層二硫化鉬薄膜。在生長(zhǎng)過(guò)程中引入氧氣，不僅能夠阻止三氧化鉬源中毒，降低形核密度，而且還能減小硫空位密度，從而實(shí)現(xiàn)了大尺寸單晶單層二硫化鉬的生長(zhǎng)。
利用等離子體修飾系統(tǒng)，在自限生長(zhǎng)的前提下，目前已實(shí)現(xiàn)了兩英寸晶圓級(jí)高質(zhì)量單層二硫化鉬的外延生長(zhǎng)（100%覆蓋度，成膜均勻），并通過(guò)改進(jìn)轉(zhuǎn)移設(shè)備，實(shí)現(xiàn)了晶圓級(jí)薄膜的零污染且襯底無(wú)損轉(zhuǎn)移。單層二硫化鉬薄膜均勻覆蓋在整個(gè)藍(lán)寶石襯底上，而且沒(méi)有縫隙，沒(méi)有重疊層。 薄膜由晶粒尺寸為 1 微米，相對(duì)取向?yàn)?60 o的晶粒拼接而成。成型薄膜只包含 60 o晶界。
等離子體修飾系統(tǒng)產(chǎn)品優(yōu)勢(shì)
1、避免固態(tài)源中毒；
2、成膜均勻性好；
3、成膜面積大；
4、快速、生長(zhǎng)速度可控。
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國(guó)產(chǎn)電子束光刻機(jī)實(shí)現(xiàn)自主可控，是實(shí)現(xiàn)我國(guó)集成電路產(chǎn)業(yè)鏈自主可控的重要一環(huán)。近日，澤攸科技聯(lián)合松山湖材料實(shí)驗(yàn)室開展的全自主電子束光刻機(jī)整機(jī)的開發(fā)與產(chǎn)業(yè)化項(xiàng)目取得重大進(jìn)展，成功研制出電子束光刻系統(tǒng)，實(shí)現(xiàn)了
在科技創(chuàng)新的浪潮中，澤攸科技以其研發(fā)實(shí)力和創(chuàng)新精神，不斷推動(dòng)著儀器行業(yè)的發(fā)展。6月12日，我們迎來(lái)了一個(gè)具有里程碑意義的時(shí)刻——澤攸科技銅陵公司正式喬遷至東市電子創(chuàng)業(yè)園，這不僅是公司發(fā)展歷程中的一個(gè)新
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