參考價(jià)格
10-20萬(wàn)元型號(hào)
ERS 4品牌
產(chǎn)地
德國(guó)樣本
暫無(wú)調(diào)速范圍:
0-14000 rpm分散輪直徑(mm):
55全容積(m3):
不限能耗:
4 kW處理量:
300 L/H 見(jiàn)選型表物料類型:
液體、固體、粉末、粘稠液體、漿料等工作原理:
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IKN管線式高剪切分散機(jī)/IKN超高速納米分散機(jī)/德國(guó)IKN高速納米乳化機(jī)/IKN三級(jí)高速納米乳化機(jī) 德國(guó)進(jìn)口立式工業(yè)乳化設(shè)備
管線式高剪切工作過(guò)程原理
在高速旋轉(zhuǎn)的轉(zhuǎn)子產(chǎn)生的離心力作用下,物料從工作頭的上進(jìn)料區(qū)域軸向吸入工作腔。強(qiáng)勁的離心力將物料甩入定子與轉(zhuǎn)子之間狹窄且精密的間隙,物料在離心擠壓和撞擊等作用力下實(shí)現(xiàn)初步分散乳化。轉(zhuǎn)子外端產(chǎn)生至少15m/s的線速度,**可達(dá)40m/s,形成強(qiáng)烈的機(jī)械及液力剪切、液層摩擦和撞擊撕裂,使物料充分分散、乳化、均質(zhì)和破碎,并從徑向噴射出來(lái)。經(jīng)過(guò)一次處理或循環(huán)處理后,*終完成分散、乳化、均質(zhì)過(guò)程?;蛘?,在第二組轉(zhuǎn)子離心力作用下,物料進(jìn)入第二組定子與轉(zhuǎn)子工作區(qū),再次經(jīng)過(guò)多層、密集、均勻的剪切作用后從徑向噴射出來(lái)。接著,在第三組轉(zhuǎn)子離心力作用下,進(jìn)入第三組定子與轉(zhuǎn)子工作區(qū),完成分散、乳化、均質(zhì)等工藝過(guò)程。經(jīng)過(guò)三組定子與轉(zhuǎn)子依次處理,物料在短時(shí)間內(nèi)得到均勻處理,*終完成分散、乳化、均質(zhì)過(guò)程。
依肯的管線式高剪切分散機(jī)因14000/21000rpm的高轉(zhuǎn)速,豐富的可選刀頭,深厚的應(yīng)用經(jīng)驗(yàn)為客戶提供了一個(gè)研磨分散/乳化均質(zhì)的設(shè)備好選擇。粒徑可研磨至納米級(jí),效率遠(yuǎn)高于傳統(tǒng)研磨設(shè)備。
研磨分散效果受多種因素影響,主要包括以下幾點(diǎn):
-研磨和分散頭的類型,連續(xù)式通常優(yōu)于批次式。
-研磨和分散頭的剪切速率,剪切速率越高,分散效果通常越好。
-研磨和分散頭的齒形結(jié)構(gòu),齒形分為初齒、中齒、細(xì)齒和超細(xì)齒,齒形越細(xì),分散效果越好。
-物料在研磨分散腔體內(nèi)的停留時(shí)間和研磨均質(zhì)時(shí)間,對(duì)于相同功率的電機(jī),流量越小,物料停留時(shí)間越長(zhǎng),分散效果越好。
-循環(huán)次數(shù),在一定范圍內(nèi),循環(huán)次數(shù)越多,分散效果越好。
IKN管線式研磨機(jī)與國(guó)內(nèi)粉碎機(jī)的比較:
轉(zhuǎn)速和剪切力
國(guó)內(nèi)粉碎機(jī):
轉(zhuǎn)速:3000/4700 RPM,由直聯(lián)電機(jī)決定轉(zhuǎn)子轉(zhuǎn)速。
線速度:V = 3.14 × 0.55 × 3000 / 60 = 9 m/s;V = 3.14 × 0.55 × 4700 / 60 = 14 m/s。
作用力:F = 9 / 0.3 × 1000 = 30000 S?1;F = 14 / 0.3 × 1000 = 42000 S?1。
IKN高剪切粉碎機(jī):
轉(zhuǎn)速:9000/14000 RPM,通過(guò)皮帶加速。
線速度:V = 3.14 × 0.055 × 9000 / 60 = 26 m/s;V = 3.14 × 0.055 × 14000 / 60 = 44 m/s。
作用力:F = 23 / 0.2 × 1000 = 115000 S?1;F = 40 / 0.2 × 1000 = 200000 S?1。
這是研磨粉碎的重要因素,IKN粉碎機(jī)的作用力是國(guó)產(chǎn)粉碎機(jī)的4-5倍。
設(shè)備內(nèi)部構(gòu)造
國(guó)內(nèi)粉碎機(jī):
臥式直聯(lián)結(jié)構(gòu),運(yùn)行時(shí)間長(zhǎng)易造成軸偏心,運(yùn)轉(zhuǎn)不正常,需專業(yè)人員拆解內(nèi)部結(jié)構(gòu)更換損壞部件。
IKN粉碎機(jī):
立式分體結(jié)構(gòu),運(yùn)行時(shí)間長(zhǎng)不易偏心,易于更換部件,普通人員即可操作,只需更換相應(yīng)皮帶。
密封
國(guó)內(nèi)粉碎機(jī):
填料密封或骨架密封,單機(jī)械密封或軸封,泄漏故障率高,產(chǎn)品泄漏可能進(jìn)入馬達(dá),導(dǎo)致馬達(dá)燒毀。
IKN粉碎機(jī):
雙機(jī)械密封,易于清洗,泄漏風(fēng)險(xiǎn)低,可24小時(shí)不間斷運(yùn)行。特殊德國(guó)PDF軸封,可運(yùn)行10000小時(shí)??蛇x擇德國(guó)高品質(zhì)機(jī)械密封,**承受16bar壓力,入口**壓力可達(dá)12-13bar。
產(chǎn)品效果
國(guó)內(nèi)粉碎機(jī):
粒徑細(xì)度有限,10微米以下較難實(shí)現(xiàn),重復(fù)性差,粒徑分布不均勻。
IKN高剪切粉碎機(jī):
可實(shí)現(xiàn)0.1-1微米的顆粒加工,粒徑分布均勻,納米級(jí)分散乳化粉碎。
設(shè)備可選:
設(shè)備等級(jí):化工級(jí)、衛(wèi)生I級(jí)、衛(wèi)生II級(jí)、無(wú)菌級(jí)
電機(jī)形式:普通馬達(dá)、變頻調(diào)速馬達(dá)、防爆馬達(dá)、變頻防爆馬達(dá)、
電源選擇: 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ
電機(jī)選配件: PTC 熱保護(hù)、降噪型
研磨分散機(jī)材質(zhì):SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti、氧化鋯陶瓷
研磨分散機(jī)選配:儲(chǔ)液罐、排污閥、變頻器、電控箱、移動(dòng)小車
研磨分散機(jī)表面處理:拋光、耐磨處理
進(jìn)出口聯(lián)結(jié)形式:法蘭、螺口、夾箍
研磨分散機(jī)選配容器:本設(shè)備適合于各種不同大小的容器
IKN管線式高剪切分散機(jī)/IKN超高速納米分散機(jī)/德國(guó)IKN高速納米乳化機(jī)/IKN三級(jí)高速納米乳化機(jī)
超高速納米分散設(shè)備
親水性O(shè)X50納米二氧化硅分散液混合分散機(jī),防火玻璃用納米二氧化硅混合分散機(jī),納米二氧化硅防火玻璃分散液混合分散機(jī),連續(xù)式納米二氧化硅分散機(jī),在線式納米二氧化硅分散機(jī),德國(guó)進(jìn)口分散機(jī),在線式分散機(jī)IK
2019-03-15
西甲硅油是聚二甲基硅氧烷和4%-7%二氧化硅的復(fù)合物,具有降低氣泡表面張力,裂解氣泡的特性。本品由德國(guó)柏林化學(xué)公司在上世紀(jì)七十年代開(kāi)發(fā)上市,在歐美等國(guó)家地區(qū)已使用三十多年。自2001年我國(guó)衛(wèi)生部允
2023-03-27
乳劑(Emulsion)是指互不相溶的兩相液體,其中一相以小液滴狀態(tài)分散于另一相液體中形成的非均勻分散的液體制劑。形成液滴的相稱為分散相、內(nèi)相或非連續(xù)相,另一相液體則稱為分散介質(zhì)、外相或連續(xù)相
2024-03-13
醫(yī)藥微球乳化就是采用批次操作還是在線操作微球(microspheres)是指藥物分散或被吸附在高分子聚合物基質(zhì)中而形成的微小球狀實(shí)體,其粒徑一般在1—250μ
2024-03-13
《哪吒之魔童鬧海》(哪吒2)票房一路飆升,成功突破120億大關(guān),這成績(jī)堪稱“票房奇跡”!影片中金色與黑色勢(shì)力的激烈交鋒,那高速對(duì)撞、渦旋升騰沖擊出一片片血霧的震撼畫面,是不是讓你印象深刻?小編看到這些
通常情況下,工業(yè)化生產(chǎn)的過(guò)氧苯甲酰呈現(xiàn)為類似雪珠的顆粒,直徑在0.01至0.5厘米之間;或者類似食鹽大小的顆粒,直徑在60至150微米范圍內(nèi)。當(dāng)這類顆粒尺寸的過(guò)氧苯甲酰被用于凝膠或乳膏劑時(shí),其粒徑大小
在藥品產(chǎn)業(yè)化進(jìn)程中,研發(fā)部門與生產(chǎn)部門的技術(shù)認(rèn)知差異,往往導(dǎo)致從實(shí)驗(yàn)室到車間的關(guān)鍵跨越成為"死亡之谷"。這種矛盾本質(zhì)上是兩種專業(yè)邏輯的沖突: ▌研發(fā)端的典型困境"
二氧化硅高含量漿料因其獨(dú)特的物理和化學(xué)性質(zhì),如高穩(wěn)定性、高硬度、高耐磨性和良好的化學(xué)惰性,在多個(gè)行業(yè)中有著廣泛的應(yīng)用。以下是一些主要的應(yīng)用行業(yè):1.半導(dǎo)體和電子行業(yè)芯片制造:二氧化硅漿料用于半導(dǎo)體芯片