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碳化硅涂層CVD爐品牌
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應(yīng)用于半導(dǎo)體裝備的石墨或陶瓷碳化硅涂層生產(chǎn),具有工藝氣體控制精度高、涂層均勻致密、涂層與基底結(jié)合良好、自動(dòng)化程度高、可一鍵啟動(dòng)等特點(diǎn)。
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