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擁有多位資深的光學(xué)設(shè)計(jì)專家，可以為客戶提供專業(yè)化的光學(xué)系統(tǒng)設(shè)計(jì)服務(wù)以及產(chǎn)品的定制服務(wù)。光學(xué)設(shè)計(jì)項(xiàng)目:成像光學(xué)設(shè)計(jì):紅外鏡頭，手機(jī)鏡頭，指紋儀鏡頭，照相鏡頭，CCTV鏡頭，望遠(yuǎn)鏡頭，掃描儀鏡頭，顯微鏡頭，投影鏡頭，工業(yè)鏡頭等成像系統(tǒng)的設(shè)計(jì)。
| 詳細(xì)參數(shù) | |
| 儀器指標(biāo) | 檢測(cè)項(xiàng)目 |
| 超高精密自動(dòng)測(cè)角儀( PrismMaster HR MOT Goniometer) 測(cè)量工作臺(tái)直徑:Φ200mm;單次測(cè)量**精度:0.5";多次測(cè)量**精度:>0.2";測(cè)量范圍:0°~360°任意角度;微調(diào)旋鈕轉(zhuǎn)動(dòng)精調(diào):+/-30″ | 測(cè)量棱鏡、多邊棱鏡、光楔、窗口以及其他平面光學(xué)器件 |
| 光學(xué)測(cè)量工作站( Optical Test Station) 工作波長(zhǎng):525nm; 焦距:測(cè)量范圍:-500mm~-5mm,+5mm~+500mm,重復(fù)性:±0.04%~0.3%,精度:±0.04%~±0.3% 后截距及法蘭焦距(BFL/FFL):測(cè)量范圍:-500mm~-5mm,+5mm~+500mm,重復(fù)性:±0.04%~0.3%,精度:±0.04%~±0.3% 曲率半徑:測(cè)量范圍:-500mm~-5mm,+5mm~+500mm,重復(fù)性:±0.04%~0.3%,精度:±0.03%~±0.3% 驅(qū)動(dòng)的XY臺(tái)面:移動(dòng)范圍:200mm×150mm,分辨率:1μm | 測(cè)量柱面和球面透鏡的：焦距（ EFL ）、后截距及法蘭焦距（ BFL , FFL ）、正/負(fù)曲率半徑：對(duì)于柱面鏡，額外測(cè)量功能：中心偏差（柱軸的頂線與參照面之間的偏差，參照面可為柱面鏡的外沿面）、柱袖與機(jī)械參考線的扭轉(zhuǎn)角度。 |
| 通用途紫外/可見(jiàn)光傳遞函數(shù)測(cè)試儀(IS-300 UV/VIS MTF TESTSYSTEM) 可測(cè)量參數(shù):MTF、**焦平面、場(chǎng)曲、象散、色差、畸變、EFL等;MTF測(cè)量精度:+/-0.02MIF;MTF測(cè)量重復(fù)性:+/-0.01MTF; 場(chǎng)曲:優(yōu)于+/-5μm;畸變:優(yōu)于+/-0.5%;焦距測(cè)量范圍:3mm~1000mm;**數(shù)值孔徑:0.85 | 在可見(jiàn)光及紫外波段對(duì)光學(xué)系統(tǒng)或光學(xué)組件的傳遞函數(shù)、焦距和畸變等參數(shù)進(jìn)行測(cè)量 |
| 鏡面定位儀( LENSCAN System) 測(cè)量范圍:0~600mm光學(xué)長(zhǎng)度;測(cè)量精度:+/-0.15μm;測(cè)試重復(fù)性:標(biāo)準(zhǔn)偏差 STDEV<100nm(30次測(cè)量) | 主要用于光學(xué)系統(tǒng)中的透鏡間隔和厚度測(cè)量 |
| 超高精密全自動(dòng)球徑儀( Automatic Spherometer) 曲率半徑測(cè)量精度:0.005%;半徑測(cè)量范圍:凸:+3mm~無(wú)限;凹:-6mm~無(wú)限 | 用于高精度光學(xué)樣板曲率半徑測(cè)量和光學(xué)元件曲率半徑檢驗(yàn) |
| 大口徑激光干涉儀( Verifire XP/D Interferometer) 三平板重復(fù)性:<2nm,λ/300;RMS重復(fù)性:<0.1nm,λ/10，000；條紋分辨率:180條紋;分辨率:>λ/8，000（ 二次通過(guò));相干長(zhǎng)度:>100m | 精密測(cè)量各種反射面和光學(xué)系統(tǒng)的表面面形、精密測(cè)量光學(xué)系統(tǒng)的傳輸波前 |
| 菲索型動(dòng)態(tài)干涉儀( Intellium H2000 Interferometer) 測(cè)量元件反射率范圍:0.1%-100%;測(cè)試精度PV值優(yōu)于100; 1K*1K空間分辨率,優(yōu)于300的條紋分辨率;相干長(zhǎng)度:>328ft(100m) | 測(cè)量光學(xué)件表面、機(jī)械拋光表面和半導(dǎo)體晶片表面 |
| 橢偏儀( Ellipsometer) 光譜范圍:190-1100nm;樣品**直徑:200mm;自動(dòng)變角范圍:15°~90°;單色光源的焦距:160mm | 用于研究分析半導(dǎo)體、電介質(zhì)、聚合物、金屬、多層膜等材料的特性,可測(cè)量其透射、反射、相位延遲量、雙折射、退偏、散射和穆勒矩陣等 |
| TESA VISIO 300 GL同軸變焦型影像測(cè)量?jī)x XY平面精度:(2.0+4L/1000)μm,(L單位為mm);z軸精度(2.9+5L/1000)μm,(L單位為mm); 測(cè)量范圍300X200X150mm(X/Y/Z);工作臺(tái)表面尺寸:510x480m(X/Y);工作臺(tái)承重:16公斤; | 通過(guò)光學(xué)成像完成非接觸測(cè)量，特別適合于沖壓件,塑料件，注塑件和絲膜印刷,電子等行業(yè)的測(cè)量要求 |
| 非球面檢測(cè)儀( LuphoScan measuring system) 精度(光束入射角度<2°):拋光：Ra<1μm 1μm≤Ra≤3μm ±50mm ±250nm ±1μm ;測(cè)量范圍:420mm(直徑)×80mm(高度); 重復(fù)性:±20nm(2σ);縱向分辨率:0.1nm;光斑大小:4μm;**測(cè)試口徑:420mm | 用于旋轉(zhuǎn)對(duì)稱表面的光學(xué)鏡片面形測(cè)量,包括球面、非球面、平面、柱面、錐面等 |
| LAS激光定心裝配工作臺(tái)( Laser Alignment and Assembly Station) 測(cè)量精度:TIR 0.5um;直線導(dǎo)軌:1250mm;有效工作空間:1.0m;樣品臺(tái):Φ400mm;空氣軸承,承重:900kg; 軸向/徑向跳動(dòng)精度:0.05m,軸晃動(dòng):0.025um/25mm;高精度杠桿表:0.1um | 用于光學(xué)系統(tǒng)單元裝配、系統(tǒng)調(diào)試過(guò)程中光學(xué)元件中心偏差的精密測(cè)量和校正 |
| 粗糙度微輪廓儀( Surface Profiler) 測(cè)量范圍:**可測(cè)直徑Φ300mm;測(cè)量陡度:**可測(cè)70°;球面測(cè)量的重復(fù)性:<100nm | 用于光學(xué)元件的表面粗糙度和面形測(cè)量 |
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