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硅橡膠改性分散機(jī)，納米物料改性硅橡膠技術(shù)，硅橡膠改性設(shè)備，高剪切研磨分散機(jī)
     
硅橡膠具有優(yōu)異的耐熱性、耐寒性和電性能，廣泛用于電絕緣制品和密封制品等領(lǐng)域中，近幾年得到了長(zhǎng)足發(fā)展。隨著工業(yè)化水平的不斷提高，人們對(duì)硅橡膠的要求也越來越高，傳統(tǒng)的硅橡膠產(chǎn)品難以滿足人們的要求，尤其在機(jī)械性、阻燃性和抗老化性等方面，因此，對(duì)硅橡膠進(jìn)行改性勢(shì)在必行。

納米粒子具有量子尺寸效應(yīng)、小尺寸效應(yīng)、表面效應(yīng)和宏觀量子隧道效應(yīng)，因而展現(xiàn)出許多特有的性質(zhì)。在催化、光吸收、磁介質(zhì)及新材料等領(lǐng)域有良好的發(fā)展前景，在對(duì)高分子材料性能的改善與提高方面也具有巨大的發(fā)展空間。利用納米材料作為改性劑對(duì)室溫硫化硅橡膠進(jìn)行相關(guān)性能研究是一種新穎而有效的手段，納米SiOx粒子尺寸在10-15 nm，表面原子數(shù)目多，具有較高的表面能和表面結(jié)合能；同時(shí)，納米SiOx粒子表面氧原子大量流失，納米SiOx分子式中值在1．2～1．6之間，因而粒子表面欠氧而具有不穩(wěn)定的硅氧結(jié)構(gòu)；另外，納米SiOx粒子表面還含有大量羥基，表面羥基值高達(dá)48％。因而利用納米SiOx對(duì)室溫硫化硅橡膠改性時(shí)將產(chǎn)生特殊的效果。并且，納米SiOx的主要成分與室溫硫化硅橡膠的主鏈組成相同，有利于納米材料在其中分散。再加以高精密的分散設(shè)備的配合，防止納米SiOx在分散中形成二級(jí)團(tuán)聚體，IKN研磨分散機(jī)在納米改性硅橡膠領(lǐng)域有著豐富的經(jīng)驗(yàn)，設(shè)備的結(jié)構(gòu)以及高的轉(zhuǎn)速，可以很好的將納米物料分散到硅橡膠中，從而更充分的改進(jìn)硅橡膠的性能。        

CMD2000系列研磨分散設(shè)備是IKN（上海）公司經(jīng)過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產(chǎn)品，該機(jī)特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級(jí)高剪切均質(zhì)乳化機(jī)進(jìn)行改裝，我們將三級(jí)變跟為一級(jí)，然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭，使物料可以先經(jīng)過膠體磨細(xì)化物料，然后再經(jīng)過乳化機(jī)將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進(jìn)行更換（我們提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五種乳化頭供客戶選擇）。

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CMD2000系列研磨分散機(jī)的結(jié)構(gòu)：

研磨式分散機(jī)是由錐體磨,分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品

**級(jí)由具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級(jí)都可以改變方向。

第二級(jí)由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。 

CMD2000系列研磨分散機(jī)的特點(diǎn)：

①線速度很高，剪切間隙非常小，當(dāng)物料經(jīng)過的時(shí)候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說的濕磨

②定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。

③定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離

④在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級(jí)都可以改變方向。

⑤高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

硅橡膠改性分散機(jī)，納米物料改性硅橡膠技術(shù)，硅橡膠改性設(shè)備，高剪切研磨分散機(jī)