參考價格
5-10萬元型號
CMSD2000品牌
IKN產(chǎn)地
德國樣本
暫無粉碎程度:
超細粉碎單位能耗:
0-10產(chǎn)量:
300-60000裝機功率(kw):
2.2成品細度:
0-0.2入料粒度(mm):
0-100工作原理:
輥壓碾磨看了水性丙烯酸樹脂壓敏膠研磨分散機的用戶又看了
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水性丙烯酸樹脂壓敏膠簡述:具有不飽和雙鍵的單體在催化劑作用下進行自由基聚合反應(yīng)制得的丙烯酸酯樹脂。聚丙烯酸酯壓敏膠具有較好的耐低溫、耐高溫,可凝揮發(fā)物和質(zhì)量損失率低,并且無有害氣體逸出的特性,制成的各類壓敏膠帶,可方便對薄膜的粘貼。
近年來,隨著聚合技術(shù)的不斷完善和發(fā)展,以及人們對環(huán)保產(chǎn)品的重視,丙烯酸樹脂的改性受到人們的廣泛關(guān)注。丙烯酸樹脂具有色淺、透明度高、光亮豐滿、涂膜堅韌、附著力強、耐腐蝕等特點,是常用的涂層材料。
聚合時所采用的單體可分為三類:
它是碳原子數(shù)為4-12的丙烯酸烷基酯,具有粘性作用,聚合物的玻璃化溫度為-20— -70°C ,常用的有丙烯酸異辛酯和丙烯酸丁酯等。
這是一些玻璃化溫度較高的單體,它不僅能提高膠液的內(nèi)聚力,而且對耐水性、膠接強度、透明性等也明顯改善。
主要是一些帶有反應(yīng)性官能團的含有雙急需的單體,如含羧基、羥基、酰胺基等的丙烯酸衍生物。它能與其它單體起交聯(lián)作用,促進聚合反應(yīng),加快聚合速度,提高膠液的穩(wěn)定性。
上海依肯**研發(fā)的研磨分散機特別適合于需要研磨分散均質(zhì)一步到位的物料。是將IKN/依肯膠體磨進行進一步的改良,在原來CM2000系列研磨分散機為立式分體結(jié)構(gòu),精密的零部件配合運轉(zhuǎn)平穩(wěn),運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封,并通冷媒對密封部分進行冷卻,把泄露概率降到低,保證機器連續(xù)24小時不停機運行。在膠體磨的基礎(chǔ)上,將單一的膠體磨磨頭模塊,改良成兩級模塊,加入了一級分散盤。
CMD2000研磨分散機為立式分體結(jié)構(gòu),精密的零部件配合運轉(zhuǎn)平穩(wěn),運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封,并通冷媒對密封部分進行冷卻,把泄露概率降到低,保證機器連續(xù)24小時不停機運行。
CMD2000研磨分散機有一定輸送能力,對高固含量有一定粘稠度物料,CM2000設(shè)計了符合漿液流體特性的特殊轉(zhuǎn)子,進行物料的推動輸送;所有與物料接觸部位均為316L不銹鋼,機座采用304不銹鋼;特殊要求如:硬度較大物料,對鐵雜質(zhì)要求嚴苛的物料,管道有一定壓力并且需不間斷運轉(zhuǎn)的工況,可選磨頭噴涂碳化物或陶瓷;CMD2000改良型膠體磨腔體外有夾套設(shè)計,可通冷卻或者升溫介質(zhì)。
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CMD2000系列研磨分散機的結(jié)構(gòu):研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。
**級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。
第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設(shè)計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是指定轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例,依據(jù)以前的經(jīng)驗指定工作頭來滿 足一個具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下,機器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的,因而它對制造出*終產(chǎn)品是很重要。當不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預期的應(yīng)用。
研磨分散機的特點:
更穩(wěn)定 采用優(yōu)化設(shè)計理念,將先進的技術(shù)與創(chuàng)新的思維有效融合,并體現(xiàn)在具體的設(shè)備結(jié)構(gòu)設(shè)計中,為設(shè)備穩(wěn)定運行提供了保證.
新結(jié)構(gòu) 通過梳齒狀定子切割破碎,縫隙疏密決定細度大小,超高線速度的吸料式葉輪提供超強切割力,纖維濕法研磨破碎可達400目.
更可靠 采用整體式機械密封,**程度上解決了高速運轉(zhuǎn)下的物料泄漏以及冷卻介質(zhì)污染等問題,安裝與更換方便快捷.
新技術(shù) 采用國際先進的受控切割技術(shù),將纖維類物料粉碎細度控制在設(shè)定范圍之內(nèi),滿足生產(chǎn)中的粗、細及超細濕法粉碎的要求.
設(shè)備等級:化工級、衛(wèi)生I級、衛(wèi)生II級、無菌級
電機形式:普通馬達、變頻調(diào)速馬達、防爆馬達、變頻防爆馬達、
電源選擇: 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ
電機選配件: PTC 熱保護、降噪型
研磨分散機材質(zhì):SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti,氧化鋯陶瓷
研磨分散機選配:儲液罐、排污閥、變頻器、電控箱、移動小車
研磨分散機表面處理:拋光、耐磨處理
進出口聯(lián)結(jié)形式:法蘭、螺口、夾箍
研磨分散機選配容器:本設(shè)備適合于各種不同大小的容器
CMD2000系列研磨分散機設(shè)備選型表
型號 | 流量 L/H | 轉(zhuǎn)速 rpm | 線速度 m/s | 功率 kw | 入/出口連接 DN |
CMD2000/4 | 300 | 9000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 |
CMD2000/5 | 1000 | 6000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
CMD2000/10 | 2000 | 4200 | 23 | 22 | DN80/DN65 |
CMD2000/20 | 5000 | 2850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
CMD2000/30 | 8000 | 1420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
CMD2000/50 | 15000 | 1100 | 23 | 110 | DN200/DN150 |
流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性,可以被調(diào)節(jié)到**允許量的10%
IKN研磨分散機應(yīng)用領(lǐng)域:
化學工業(yè):油漆、顏料、染料、涂料、潤滑油、潤滑脂、柴油、石油催化劑、乳化瀝青、膠粘劑、洗滌劑、塑料、玻璃鋼、皮革、乳化等。
日用化工:牙膏、洗滌劑、洗發(fā)精、鞋油、高級化妝品、沐浴精、肥皂、香脂等。
建筑工業(yè):各種涂料。包括內(nèi)外墻涂料、防腐防水涂料、冷瓷涂料、多彩涂料、陶瓷釉料等。
其它工業(yè):塑料工業(yè)、紡織工業(yè)、造紙工業(yè)、煤炭浮選劑、納米材料等
采用優(yōu)化設(shè)計理念,將先進的技術(shù)與創(chuàng)新的思維有效融合,并體現(xiàn)在具體的設(shè)備結(jié)構(gòu)設(shè)計中,為設(shè)備穩(wěn)定運行提供了保證.
親水性O(shè)X50納米二氧化硅分散液混合分散機,防火玻璃用納米二氧化硅混合分散機,納米二氧化硅防火玻璃分散液混合分散機,連續(xù)式納米二氧化硅分散機,在線式納米二氧化硅分散機,德國進口分散機,在線式分散機IK
2019-03-15
西甲硅油是聚二甲基硅氧烷和4%-7%二氧化硅的復合物,具有降低氣泡表面張力,裂解氣泡的特性。本品由德國柏林化學公司在上世紀七十年代開發(fā)上市,在歐美等國家地區(qū)已使用三十多年。自2001年我國衛(wèi)生部允
2023-03-27
乳劑(Emulsion)是指互不相溶的兩相液體,其中一相以小液滴狀態(tài)分散于另一相液體中形成的非均勻分散的液體制劑。形成液滴的相稱為分散相、內(nèi)相或非連續(xù)相,另一相液體則稱為分散介質(zhì)、外相或連續(xù)相
2024-03-13
醫(yī)藥微球乳化就是采用批次操作還是在線操作微球(microspheres)是指藥物分散或被吸附在高分子聚合物基質(zhì)中而形成的微小球狀實體,其粒徑一般在1—250μ
2024-03-13
在乳劑藥品如軟膏、乳霜等的整個生產(chǎn)過程中——必須按照嚴格的產(chǎn)品衛(wèi)生或無菌級標準進行管控。各種原料必須在受控、安全和可重復的條件下以定量的方式進行均質(zhì)、加熱、冷卻、滅菌與填充。生產(chǎn)系統(tǒng)必須包含在線清洗(
一種分散乳化一體機
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