參考價格
5-10萬元型號
CMD2000品牌
IKN產(chǎn)地
德國樣本
暫無粉碎程度:
超細粉碎單位能耗:
0-10產(chǎn)量:
300-60000裝機功率(kw):
2.2成品細度:
0-0.2入料粒度(mm):
0-100工作原理:
輥壓碾磨看了鉻黃顏料研磨分散機 高分子納米分散機的用戶又看了
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產(chǎn)品關(guān)鍵詞概述:鉻黃顏料研磨分散機 高分子納米分散機,顏料研磨均質(zhì)機,無機顏料分散機,有機研磨分散機,分體式研磨分散機
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無機顏料的基本光學(xué)性能和顏料性能,主要由以下三方面來確定:
1.顏料與分散介質(zhì)之間的折光率之差;
2.被固體吸收的光(包括固體中的雜質(zhì));
3.粒徑及粒徑分布。其中粒徑及粒徑分布可以通過表面處理來改善。
無機顏料近年來的研究開發(fā)方向主要是:
1.發(fā)展復(fù)合顏料,例如亮藍(CoO·Cr2O3·Al2O3)、鈦鎳黃(TiO2·NiO·Sb2O3)等。在鎳、銻的鈦酸鹽中,添加鉻、鈷、鐵、鋅等氧化物,可制成黃、綠、藍、棕等耐高溫、耐久、耐化學(xué)藥品的低毒至無毒的顏料,色澤鮮亮,性能優(yōu)良,可用于有高耐久性要求的建筑材料、涂料、工程塑料的著色及配制繪畫顏料等。
2.開發(fā)顏料顆粒表面處理技術(shù),以無機化合物或有機化合物在顏料顆粒表面形成一層色膜,可改變顏料顆粒表面性能,提高耐光、耐熱、潤濕等特性,擴大應(yīng)用面,提高使用價值。③制造加工顏料,使用戶可直接應(yīng)用,節(jié)省大量研磨加工的費用。
IKN鉻黃顏料研磨分散機的簡介:
IKN鉻黃顏料研磨分散機通過皮帶傳送,可實現(xiàn)普通分散機兩到三倍的加速,同時立式直立的轉(zhuǎn)軸,運轉(zhuǎn)穩(wěn)定性大大提高,同時轉(zhuǎn)子動平衡性得到提高,間隙也允許縮小而不產(chǎn)生摩擦。特別適合于需要研磨分散均質(zhì)一步到位的物料。是將IKN/依肯膠體磨進行進一步的改良,在原來CM2000系列研磨分散機為立式分體結(jié)構(gòu),精密的零部件配合運轉(zhuǎn)平穩(wěn),運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封,并通冷媒對密封部分進行冷卻,把泄露概率降到低,保證機器連續(xù)24小時不停機運行。在膠體磨的基礎(chǔ)上,將單一的膠體磨磨頭模塊,改良成兩級模塊,加入了一級分散盤。
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CMD2000研磨分散機有一定輸送能力,對高固含量有一定粘稠度物料,CM2000設(shè)計了符合漿液流體特性的特殊轉(zhuǎn)子,進行物料的推動輸送;所有與物料接觸部位均為316L不銹鋼,機座采用304不銹鋼;特殊要求如:硬度較大物料,對鐵雜質(zhì)要求嚴苛的物料,管道有一定壓力并且需不間斷運轉(zhuǎn)的工況,可選磨頭噴涂碳化物或陶瓷;CMD2000改良型膠體磨腔體外有夾套設(shè)計,可通冷卻或者升溫介質(zhì)。
CMD2000系列研磨分散機的結(jié)構(gòu):研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。
**級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。
第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設(shè)計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是指定轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例,依據(jù)以前的經(jīng)驗指定工作頭來滿 足一個具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下,機器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的,因而它對制造出*終產(chǎn)品是很重要。當不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。
CMD2000系列研磨分散機設(shè)備選型表
型號 | 流量 L/H | 轉(zhuǎn)速 rpm | 線速度 m/s | 功率 kw | 入/出口連接 DN |
CMD2000/4 | 300 | 9000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 |
CMD2000/5 | 1000 | 6000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
CMD2000/10 | 2000 | 4200 | 23 | 22 | DN80/DN65 |
CMD2000/20 | 5000 | 2850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
CMD2000/30 | 8000 | 1420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
CMD2000/50 | 15000 | 1100 | 23 | 110 | DN200/DN150 |
流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性,可以被調(diào)節(jié)到**允許量的10%
IKN鉻黃顏料研磨分散機的應(yīng)用行業(yè):
1、精細化工、顏料、染料、涂料、油漆、塑料、樹脂、熱熔膠、阻燃劑、膠黏劑、整理劑、表面活性劑、均染劑防粘劑、消泡劑、光亮劑、橡膠助劑、塑料輔劑、染料助劑、絮凝劑、混凝劑、表面活性劑溶劑、硅油乳化、樹脂乳化、炭墨分散
2、石油化工、潤滑油、重油混合、油包水、包油水、柴油乳化、改性瀝青、乳化瀝青、催化劑、蠟乳化
3、農(nóng)藥化肥 、化肥、農(nóng)藥乳化、農(nóng)藥助劑、農(nóng)藥中間體、藥乳油、殺蟲劑、除草劑、種衣劑、殺菌劑、植物激素、尿素、復(fù)合肥、乳油濕性粉劑
4、生物醫(yī)藥、細胞漿化、血清疫苗、蛋白質(zhì)分散劑、藥乳膏、抗生素、糖衣
5、日用化工、護膚霜、護膚膏、洗滌劑、防腐劑、美發(fā)用品、牙膏、日用香精
6、食品工業(yè)、食品添加劑、香精香料、果汁、果醬、冰淇淋、乳制品、巧克力、植脂末
7、涂料油墨、內(nèi)外墻涂料、乳膠漆、納米涂料、建筑膠、光固化涂料、油墨、墨水、碳黑、涂料助劑釉、膨潤土
8、造紙工業(yè)、紙漿、膠黏劑、松香分散、碳酸鈣、填料助劑、顏料混合、樹脂乳化
9、環(huán)境保護、廢水、污水處理、改質(zhì)、回收利用
10、 其它:造紙、陶瓷泥釉、除銹劑、滑石粉
聯(lián) 系 人:賈清清 (銷售部 銷售員)電 話:86 21 33506885-803移動電話:13795214885傳 真:86 21 5156****地 址:中國 上海市松江區(qū) 新橋鎮(zhèn)莘磚公路518號38幢402室 郵 箱:jiaqq@i******** 公司主頁:;
CMD2000研磨分散機為立式分體結(jié)構(gòu),精密的零部件配合運轉(zhuǎn)平穩(wěn),運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封,并通冷媒對密封部分進行冷卻,把泄露概率降到低,保證機器連續(xù)24小時不停機運行。
親水性O(shè)X50納米二氧化硅分散液混合分散機,防火玻璃用納米二氧化硅混合分散機,納米二氧化硅防火玻璃分散液混合分散機,連續(xù)式納米二氧化硅分散機,在線式納米二氧化硅分散機,德國進口分散機,在線式分散機IK
2019-03-15
西甲硅油是聚二甲基硅氧烷和4%-7%二氧化硅的復(fù)合物,具有降低氣泡表面張力,裂解氣泡的特性。本品由德國柏林化學(xué)公司在上世紀七十年代開發(fā)上市,在歐美等國家地區(qū)已使用三十多年。自2001年我國衛(wèi)生部允
2023-03-27
乳劑(Emulsion)是指互不相溶的兩相液體,其中一相以小液滴狀態(tài)分散于另一相液體中形成的非均勻分散的液體制劑。形成液滴的相稱為分散相、內(nèi)相或非連續(xù)相,另一相液體則稱為分散介質(zhì)、外相或連續(xù)相
2024-03-13
醫(yī)藥微球乳化就是采用批次操作還是在線操作微球(microspheres)是指藥物分散或被吸附在高分子聚合物基質(zhì)中而形成的微小球狀實體,其粒徑一般在1—250μ
2024-03-13
在乳劑藥品如軟膏、乳霜等的整個生產(chǎn)過程中——必須按照嚴格的產(chǎn)品衛(wèi)生或無菌級標準進行管控。各種原料必須在受控、安全和可重復(fù)的條件下以定量的方式進行均質(zhì)、加熱、冷卻、滅菌與填充。生產(chǎn)系統(tǒng)必須包含在線清洗(
一種分散乳化一體機
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