日本東洋鋁公司成功地開發(fā)出一種新型的AlN粉末，它比原來的產(chǎn)品燒結(jié)性更好，成形體的熱傳導(dǎo)率等特性都有提高。最近在東京召開的“國際陶瓷綜合展會(huì)”上開始銷售這種新產(chǎn)品。在該公司的日野工廠（滋賀縣蒲生郡）年產(chǎn)40噸的設(shè)備已投產(chǎn)，視需求情況也可在年內(nèi)增強(qiáng)生產(chǎn)能力，追趕世界居首位的德山公司。
AlN的導(dǎo)熱度比氧化鋁高10倍，熱膨脹率近似半導(dǎo)體硅，由于它的這些特性，使它作為大功率晶體管、高密度IC的基板材料，從上世紀(jì)80年代中期就引人注目，可是因其成本和可靠性等問題，需求怎么也沒有增加。但最近不僅半導(dǎo)體基板而且在半導(dǎo)體制造裝置用零件等方面需求擴(kuò)大了。
該公司的AlN粉是以本公司生產(chǎn)的高純度的噴霧AlN粉為原料用直接氮化法制造的。比氧化鋁的碳還原氮化法量產(chǎn)性好，但雜質(zhì)、粒度等質(zhì)量方面較差。為此，通過改進(jìn)方法，可以控制氧等雜質(zhì)和粒度。
AlN的導(dǎo)熱度比氧化鋁高10倍，熱膨脹率近似半導(dǎo)體硅，由于它的這些特性，使它作為大功率晶體管、高密度IC的基板材料，從上世紀(jì)80年代中期就引人注目，可是因其成本和可靠性等問題，需求怎么也沒有增加。但最近不僅半導(dǎo)體基板而且在半導(dǎo)體制造裝置用零件等方面需求擴(kuò)大了。
該公司的AlN粉是以本公司生產(chǎn)的高純度的噴霧AlN粉為原料用直接氮化法制造的。比氧化鋁的碳還原氮化法量產(chǎn)性好，但雜質(zhì)、粒度等質(zhì)量方面較差。為此，通過改進(jìn)方法，可以控制氧等雜質(zhì)和粒度。
