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王占國院士:半導(dǎo)體材料將走向“納米化”


來源:中國科學(xué)報

標(biāo)簽納米
半導(dǎo)體照明5年后進(jìn)入千家萬戶、上百位的密碼幾秒鐘就計算出來、人類進(jìn)入變幻莫測的量子世界……日前,在中國科技館數(shù)百位參加科學(xué)講壇的聽眾前,中科院院士、中科院半導(dǎo)體研究所研究員王占國展示了半導(dǎo)體材料的驚人魅力。

    半導(dǎo)體是介于導(dǎo)體和絕緣體之間的材料。自1947年12月23日正式發(fā)明后,在家電、通信、網(wǎng)絡(luò)、航空、航天、國防等領(lǐng)域得到廣泛應(yīng)用,給電子工業(yè)帶來革命性的影響。2010年,全球半導(dǎo)體市場達(dá)到2983億美元,拉動上萬億美元的電子產(chǎn)品市場。

    伴隨著半導(dǎo)體市場的壯大,半導(dǎo)體材料也不斷獲得突破。王占國介紹,一般將鍺和硅稱為第一代半導(dǎo)體材料。將砷化鎵、磷化銦等稱為第二代半導(dǎo)體材料,而將寬禁帶的碳化硅、氮化鎵和金剛石等稱為第三代半導(dǎo)體材料。

    第一代材料中,12英寸單晶硅已經(jīng)大規(guī)模生產(chǎn),18英寸單晶硅已在實驗室研制成功,全球每年集成電路中的硅用量大約2萬噸。多晶硅方面,由于國內(nèi)產(chǎn)品純度不夠,我國集成電路所用硅片基本靠進(jìn)口。2011年,我國多晶硅產(chǎn)量為5萬噸。

    硅基微電子技術(shù)方面,國際上8英寸已經(jīng)廣泛用于大規(guī)模集成電路,我國現(xiàn)有5~12英寸集成電路線約38條。

    在工藝水平上,國際上12英寸45納米工藝也投入工業(yè)生產(chǎn),預(yù)計2016年開發(fā)出16納米工藝。但我國還停留在0.18微米、90納米、65納米水平上,只有少數(shù)企業(yè)擁有45納米工藝。

    “到2015年,我國將擁有多條45~90納米的8英寸、12英寸生產(chǎn)線。2022年進(jìn)入國際前列!蓖跽紘硎。

    不過隨著集成度提高,硅晶片會遇到很多困難,例如芯片功耗急劇增加,極有可能將硅片融掉。

    國際上預(yù)計,2022年將達(dá)到“極限”尺寸——10納米。因此,硅基微電子技術(shù)最終將無法滿足人類對信息量不斷增長的需求。人們目前開始把希望放在發(fā)展新型半導(dǎo)體材料和開發(fā)新技術(shù)上。

    王占國介紹,以砷化鎵(GaAs)、磷化銦(InP)等為代表的第二代半導(dǎo)體材料不斷向硅提出挑戰(zhàn)。它可以提高器件和電路的速度,以及解決由于集成度的提高帶來的功耗增加而出現(xiàn)的問題。

    GaAs、InP等材料被廣泛應(yīng)用于衛(wèi)星通訊、移動通訊、光通信、GPS導(dǎo)航等領(lǐng)域。直徑為2、4、6英寸的GaAs已經(jīng)得到商業(yè)化應(yīng)用,8英寸的也已經(jīng)在實驗室研制成功。

    王占國說,氮化鎵、碳化硅、氧化鋅等為代表的第三代半導(dǎo)體材料也發(fā)展很快,這些材料都是寬帶隙半導(dǎo)體材料。它具有禁帶寬度大、擊穿電壓高、熱導(dǎo)率大、電子飽和漂移速度快、介電常數(shù)小等特征,能夠在很多領(lǐng)域得到廣泛應(yīng)用。

    例如在半導(dǎo)體白光照明方面,王占國預(yù)計,到2015年,我國將開發(fā)出150lm/W的半導(dǎo)體照明燈,電壓只需要3~4伏,非常安全和節(jié)能。

    王占國認(rèn)為,半導(dǎo)體材料發(fā)展的趨勢是由三維體材料向低維材料方向發(fā)展。目前,基于GaAs和InP基的低維材料已經(jīng)發(fā)展得很成熟,廣泛地應(yīng)用于光通信、移動通訊、微波通訊的領(lǐng)域。

    實際上,這些低維半導(dǎo)體材料亦即納米材料。王占國表示,半導(dǎo)體納米科學(xué)技術(shù)的應(yīng)用,將從原子、分子、納米尺度水平上,控制和制造功能強(qiáng)大、性能優(yōu)越的人工微結(jié)構(gòu)材料和基于它們的器件和電器、電路,極有可能觸發(fā)新的技術(shù)革命,使人類進(jìn)入變幻莫測的量子世界。
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