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陶氏電子材料推出應(yīng)用于CMP的可稀釋膠粒二氧化硅研磨液


來(lái)源:國(guó)際電子商情

標(biāo)簽二氧化硅
陶氏化學(xué)公司 (NYSE:DOW)旗下的陶氏電子材料事業(yè)群近日宣布推出量產(chǎn)化的KLEBOSOL® II 1730,這是一種應(yīng)用于化學(xué)機(jī)械研磨(CMP)工藝的膠粒二氧化硅研磨液。在將KLEBOSOL® II 1730研磨液應(yīng)用于層間電介質(zhì)(ILD)時(shí),已經(jīng)顯示出可以將缺陷率減低50%, 與此前的KLEBOSOL® II 1630相比,可將移除率提高10%。這種研磨液新產(chǎn)品特別適宜于ILD和金屬化后的研磨工藝,可提高機(jī)臺(tái)的開機(jī)時(shí)間、減少耗材的費(fèi)用,并且提高關(guān)鍵的CMP工藝步驟的產(chǎn)出率。

    “半導(dǎo)體制造商一直在持續(xù)不斷地改善運(yùn)行成本(COO)和性能表現(xiàn)以趕上摩爾定律的步伐,”陶氏半導(dǎo)體技術(shù)的全球市場(chǎng)總監(jiān)Mario Stanghellini說(shuō)道!疤帐弦恢敝铝τ趯⒕畹牟牧峡茖W(xué)和納米顆粒專業(yè)技術(shù)引入高級(jí)研磨液產(chǎn)品的開發(fā),以滿足CMP的下一代工藝目標(biāo)。”

    KLEBOSOL® II 1730 研磨液的特點(diǎn)是其獨(dú)特的、長(zhǎng)型研磨顆粒形貌,這種特征提高了研磨液的利用率,由于可以在使用端(POU)采用更低的研磨顆粒含量而進(jìn)行稀釋,從而使這種研磨液具有很高的成本效益。這種產(chǎn)品的研磨效力可與氣相二氧化硅研磨液相媲美,其很高的移除率還提高了產(chǎn)出量并減少了總體運(yùn)行成本,尤其是在與陶氏的工藝控制技術(shù)相配合使用時(shí)更是如此。通過(guò)與使用壽命很長(zhǎng)的陶氏CMP研磨墊配套使用更可以顯著節(jié)省成本,由于無(wú)需對(duì)研磨墊進(jìn)行大力度的表面整理,而能夠?qū)崿F(xiàn)進(jìn)一步的節(jié)約。KLEBOSOL® II 1730易于使用,不會(huì)凝聚,POU過(guò)濾能力為0.3 μm,從而進(jìn)一步減低了缺陷率。

關(guān)于陶氏化學(xué)公司

    陶氏是一家多元化的化學(xué)公司,運(yùn)用科學(xué)和技術(shù)的力量,不斷創(chuàng)新,為人類創(chuàng)造更美好的生活。公司將可持續(xù)原則貫穿于化學(xué)與創(chuàng)新,致力于解決當(dāng)今世界的諸多挑戰(zhàn),如滿足清潔水的需求、實(shí)現(xiàn)可再生能源的生產(chǎn)和節(jié)約、提高農(nóng)作物產(chǎn)量等。陶氏以其領(lǐng)先的特種化學(xué)、高新材料、農(nóng)業(yè)科學(xué)和塑料等業(yè)務(wù),為全球160個(gè)國(guó)家和地區(qū)的客戶提供種類繁多的產(chǎn)品及服務(wù),應(yīng)用于電子產(chǎn)品、水處理、能源、涂料和農(nóng)業(yè)等高速發(fā)展的市場(chǎng)。2011年,陶氏年銷售額為600億美元,在全球擁有52,000名員工,在36個(gè)國(guó)家運(yùn)營(yíng)197家工廠,產(chǎn)品達(dá)5,000多種。除特別注明外,“陶氏”或“公司”均指陶氏化學(xué)公司及其附屬公司。
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