美國(guó)Microtrac公司的S3500系列激光粒度分析儀,原理上采用經(jīng)典靜態(tài)光散射技術(shù)和全程米氏理論處理,利用現(xiàn)代模塊式設(shè)計(jì)理念,使用獲得專利的三激光光源技術(shù),配備超大角度雙鏡頭檢測(cè)系統(tǒng),以對(duì)數(shù)方式排列151個(gè)高靈敏度檢測(cè)單元,無(wú)需掃描,平行通道實(shí)時(shí)接受散射光信息,提供準(zhǔn)確可靠的測(cè)量信息。多種分散方式可選,干法與濕法測(cè)量之間的轉(zhuǎn)換,系統(tǒng)自動(dòng)識(shí)別,方便快捷。

Microtrac S3500系列產(chǎn)品分為以下8個(gè)型號(hào)。
藍(lán)波2型(BWDL)):濕法測(cè)量范圍:0.01-2,800μm;干法測(cè)量范圍:0.25-2,800μm
藍(lán)波1型(BWSL)):濕法測(cè)量范圍:0.01-2,000μm;干法測(cè)量范圍:0.25-2,000μm
增強(qiáng)型(Enhanced):濕法測(cè)量范圍:0.02-2,800μm;干法測(cè)量范圍:0.25-2,800μm
擴(kuò)展型(eXtended):濕法測(cè)量范圍:0.02-2,000μm;干法測(cè)量范圍:0.25-2,000μm
特殊型(speciaL) :濕法測(cè)量范圍:0.09-1,500μm;干法測(cè)量范圍:0.25-1,500μm
標(biāo)準(zhǔn)型(Standard):濕法測(cè)量范圍:0.25-1,500μm;干法測(cè)量范圍:0.25-1,500μm
高端型(High) :濕法測(cè)量范圍:2.75-2,800μm;干法測(cè)量范圍:2.75-2,800μm
基本型(Basic) :濕法測(cè)量范圍:0.70-1,000μm;干法測(cè)量范圍:0.70-1,000μm
Microtrac S3500激光粒度分析儀主要特點(diǎn):
﹡ 專利Tri-Laser激光系統(tǒng), 完全消除了不同波長(zhǎng)光源對(duì)顆粒散射光分布“連接點(diǎn)”的影響和多次米氏理論(Mie Theory)數(shù)學(xué)處理的誤差(米氏理論處理與波長(zhǎng)有關(guān))。
﹡ 專利“Bluewave”激光技術(shù),拓展測(cè)量下限至0.01μm。
﹡ 無(wú)需掃描,同步接受全量程散射光信號(hào),保證分析結(jié)果的高重現(xiàn)性及全量程范圍的高分辨率。
﹡ 首家引進(jìn)“非球形”顆粒概念對(duì)米氏理論計(jì)算的校正因子,內(nèi)置常用分析物質(zhì)光學(xué)數(shù)據(jù)庫(kù),提高顆粒粒度分布測(cè)試的準(zhǔn)確性。
﹡ 系統(tǒng)自動(dòng)對(duì)光,內(nèi)置輔助光源用于檢驗(yàn)和校正檢測(cè)器的靈敏度。
﹡ 多種樣品分散系統(tǒng)可供選擇,各種分散系統(tǒng)之間的轉(zhuǎn)換簡(jiǎn)單方便,結(jié)果穩(wěn)定一致。
﹡ 現(xiàn)代模塊式設(shè)計(jì),可根據(jù)實(shí)際應(yīng)用需要允許選擇儀器的配置,以滿足將來(lái)的任何需要。
﹡ 數(shù)據(jù)處理靈活方便,體積分布,數(shù)量分布和強(qiáng)度分布,微分與累計(jì)百分比以及其他綜合報(bào)告形式任意組合,數(shù)據(jù)存儲(chǔ)兼容性強(qiáng)。
﹡ NIST(National Institute of Standards & Technology)標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)指定認(rèn)證儀器。