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日本制成新超導(dǎo)材料薄膜


來源:

標(biāo)簽超導(dǎo)材料
日本物質(zhì)材料研究機構(gòu)和早稻田大學(xué)聯(lián)合研究小組2004年8月上旬發(fā)現(xiàn),添加硼的金剛石薄膜在極低溫狀態(tài)下可進入超導(dǎo)狀態(tài),這一新的超導(dǎo)材料有望用于開發(fā)新型超導(dǎo)薄膜和超導(dǎo)元件。

    薄膜采用化學(xué)氣相生成法制成,先用微波照射氣體原料使之變?yōu)殡婋x氣體,電離氣體在硅基片上層疊時,再添加2%的硼。實驗結(jié)果證明,樣品在絕對溫度8.7K進入超導(dǎo)狀態(tài)。

    在此之前俄羅斯的研究小組曾發(fā)現(xiàn),通過高溫高壓合成的金剛石微粒子在絕對溫度2.3K時,成為超導(dǎo)材料。但由于是微粒子,很難應(yīng)用于開發(fā)新元件,而添加硼后生成的金剛石薄膜超導(dǎo)材料更適于工業(yè)應(yīng)用。

    金剛石由碳原子構(gòu)成,一般不導(dǎo)電,純凈的金剛石其實是良好的絕緣體。但是,如果在金剛石中摻入少量的硼或者氮,它就會變成半導(dǎo)體。由于金剛石半導(dǎo)體體積小、耐高溫,因此它在電子或光電子元器件制造方面具有得天獨厚的優(yōu)勢。
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