中國粉體網(wǎng)訊    記者日前從中科院光電技術研究所獲悉，該所微電子專用設備研發(fā)團隊已自主研制出一種新型紫外納米壓印光刻機，其成本僅為國外同類設備1/3，將有力推進我國芯片加工等微納級結構器件制造水平邁上新的臺階。

　　光刻機是微納圖形加工的專用高端設備。光電所微電子裝備總體研究室主任胡松介紹，這套設備采用新型納米對準技術，將原光刻設備的對準精度由亞微米量級提升至納米量級�！皩�準是光刻設備三大核心指標之一，是實現(xiàn)功能化器件加工的關鍵�！焙�松表示，在國家自然基金的連續(xù)資助下，光電所研究團隊完成了基于莫爾條紋的高精度對準技術自主研發(fā)，取得專利20余項。該技術在光刻機中的成功應用，突破了現(xiàn)有納米尺度結構加工的瓶頸問題，為高精度納米器件的加工提供了技術保障，未來可廣泛應用于微納流控芯片加工、微納光學元件、微納光柵等微納結構器件的制備，目前該設備已完成初試和小批生產(chǎn)。