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投資50億元,中國最大碳化硅材料供應基地即將投產


來源:人民網

[導讀]  投資50億元,建設用地約1000畝的中國電科(山西)電子信息科技創(chuàng)新產業(yè)園即將在山西轉型綜改示范區(qū)投產。

中國粉體網訊  投資50億元,建設用地約1000畝的中國電科(山西)電子信息科技創(chuàng)新產業(yè)園即將在山西轉型綜改示范區(qū)投產。據報道,該項目計劃用5年時間,建成“一中心三基地”,即:中國電科(山西)碳化硅材料產業(yè)基地、中國電科(山西)電子裝備智能制造產業(yè)基地、中國電科(山西)三代半導體技術創(chuàng)新中心、中國電科(山西)光伏新能源產業(yè)基地。項目達產后,預計形成產值100億元。


通過吸引上游企業(yè),形成產業(yè)聚集效應,打造電子裝備制造、三代半導體產業(yè)生態(tài)鏈,建成國內最大的碳化硅材料供應基地,積極推動山西經濟的轉型升級。


大禁帶寬度、高臨界擊穿場強、高電子遷移率、高熱導率,是第三代半導體碳化硅單晶材料最響亮的“名片”,不過,碳化硅單晶的制備一直是全球性難題,而高穩(wěn)定性的長晶工藝技術是其核心。而在中國,碳化硅單晶襯底材料長期依賴進口,其高昂的售價和不穩(wěn)定的供貨情況大大限制了國內相關行業(yè)的發(fā)展。


據了解,自2007年,中國電科2所開始著手布局碳化硅單晶襯底材料的研制規(guī)劃,依靠自身在電子專用設備研發(fā)領域的技術優(yōu)勢,潛心鉆研著碳化硅單晶生長爐的研制。經過多年的不懈努力,全面掌握了高純碳化硅粉料制備工藝、4英寸高純半絕緣碳化硅單晶襯底的制備工藝,形成了從碳化硅粉料制備、晶體生長、晶片加工、外延驗證等整套碳化硅材料研制線,在國內最早實現了高純碳化硅材料、高純半絕緣晶片量產。


(中國粉體網編輯整理/三昧)

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