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新成果!首次在室溫下實(shí)現(xiàn)高純氧化鋁陶瓷閃速燒結(jié)


來源:中國(guó)粉體網(wǎng)   空青

[導(dǎo)讀]  先進(jìn)陶瓷學(xué)報(bào)(Journal of Advanced Ceramics)刊發(fā)國(guó)內(nèi)科研成果,首次在室溫下進(jìn)行高純氧化鋁的閃速燒結(jié)(FS)。

中國(guó)粉體網(wǎng)訊  1月4日,先進(jìn)陶瓷學(xué)報(bào)(Journal of Advanced Ceramics)刊發(fā)國(guó)內(nèi)科研成果,首次在室溫下進(jìn)行高純氧化鋁的閃速燒結(jié)(FS)。




閃燒技術(shù)是一種基于電場(chǎng)和熱場(chǎng)協(xié)同作用下的新型燒結(jié)技術(shù),能在遠(yuǎn)低于傳統(tǒng)燒結(jié)溫度(甚至室溫下),幾秒到幾十秒的時(shí)間內(nèi)實(shí)現(xiàn)陶瓷材料的燒結(jié)致密化。Al2O3陶瓷因其固有的穩(wěn)定性和優(yōu)異的機(jī)械性能而獲得廣泛應(yīng)用,純度99.8%的氧化鋁可在1500V·cm-1的電場(chǎng)下在900℃下進(jìn)行FS,其所需的電場(chǎng)強(qiáng)度隨著爐溫的升高而逐步減少。據(jù)報(bào)道高純氧化鋁在1300℃通過施加5000V·cm-1的電場(chǎng)下進(jìn)行FS,可獲得具有出色的機(jī)械性能的樣品。然而,值得注意的是,這些關(guān)于高純氧化鋁陶瓷FS研究都是在爐溫條件下進(jìn)行的,目前高純氧化鋁陶瓷在室溫下FS的成功案例還沒有記錄,室溫FS將為降低陶瓷燒結(jié)能耗和簡(jiǎn)化燒結(jié)設(shè)備提供機(jī)會(huì)。


由于高純氧化鋁極低的電導(dǎo)率,在室溫下高純氧化鋁進(jìn)行閃燒燒結(jié)具有挑戰(zhàn)性,而其他陶瓷材料中,如3-YSZ已經(jīng)成功實(shí)現(xiàn)了室溫下FS,在室溫FS,電弧通常出現(xiàn)并徘徊在樣品表面以上,在較低的空氣壓力下,室溫電弧誘導(dǎo)FS更容易實(shí)現(xiàn)。


本次研究中,研究人員采用有限元模擬方法分析了電弧誘導(dǎo)閃速燒結(jié)過程中電弧與高純度氧化鋁樣品之間的電-熱偶聯(lián),揭示了電弧對(duì)氧化鋁樣品的熱效應(yīng)和電效應(yīng),最終據(jù)此提高了氧化鋁樣品的電導(dǎo)率,并在電弧約束下(電弧約束裝置位于樣品上方),在60kPa下實(shí)現(xiàn)高純度氧化鋁的閃速燒結(jié)。氧化鋁樣品實(shí)現(xiàn)的相對(duì)密度為98.7%。該項(xiàng)技術(shù)證實(shí)在室溫下廣泛適用于包括離子導(dǎo)體、半導(dǎo)體,甚至絕緣體等。


來源:Journal of Advanced Ceramics


(中國(guó)粉體網(wǎng)編輯整理/空青)

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作者:空青

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