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合成石英玻璃:想“上天”,先輕點(diǎn)“膨脹”


來(lái)源:中國(guó)粉體網(wǎng)   初末

[導(dǎo)讀]  超低膨脹石英玻璃具有極低的熱膨脹系數(shù),是半導(dǎo)體光刻設(shè)備用光學(xué)元件、天文望遠(yuǎn)鏡反射鏡、原子鐘腔體等高新技術(shù)領(lǐng)域的關(guān)鍵材料。

中國(guó)粉體網(wǎng)訊  相較于其他低膨脹石英玻璃,SiO2-TiO2石英玻璃的熱膨脹系數(shù)更低,在一定溫度范圍內(nèi)甚至可以做到零膨脹或負(fù)膨脹,因此摻鈦石英玻璃又被稱為超低膨脹石英玻璃。超低膨脹石英玻璃具有極低的熱膨脹系數(shù),是半導(dǎo)體光刻設(shè)備用光學(xué)元件、天文望遠(yuǎn)鏡反射鏡、原子鐘腔體等高新技術(shù)領(lǐng)域的關(guān)鍵材料。


超低膨脹石英玻璃的制備方法


化學(xué)氣相沉積法


直接合成法又被稱為化學(xué)氣相沉積(CVD)法,等離子體化學(xué)氣相沉積(PVCD)法、管外氣相沉積法和氣相軸向沉積(VAD)法的主要原理都是基于氣相沉積法。


將含硅、含鈦的原料混合均勻后,通過(guò)氫氧氣燃燒器發(fā)生水解反應(yīng)形成摻雜二氧化鈦的二氧化硅微粒,微粒由氣流引導(dǎo)沉積至坩堝內(nèi),通過(guò)旋轉(zhuǎn)及自由流動(dòng)鋪滿坩堝,依靠坩堝控制成型即可得到超膨脹合成石英玻璃。硅原料主要選用含硅的有機(jī)化合物如四氯化硅、四氟化硅、八甲基環(huán)四硅氧烷等,鈦原料選用如四氯化鈦、四異丙氧基鈦、四(二甲氨基)鈦等。為使原料混合更加均勻,通常將原料預(yù)先進(jìn)行氣化,以氣體狀態(tài)參與后續(xù)反應(yīng)。在整個(gè)反應(yīng)過(guò)程中包含氧化與水解兩類反應(yīng),相較于氧化反應(yīng),水解反應(yīng)更容易發(fā)生,但當(dāng)氧氣過(guò)量即氧氣和水蒸氣共存時(shí),氧化反應(yīng)和水解反應(yīng)則可能會(huì)同時(shí)進(jìn)行。


CVD法制備SiO2-TiO2玻璃


采用化學(xué)氣相沉積法制備SiO2-TiO2玻璃在一定程度上可以避免引入金屬雜質(zhì),但由于反應(yīng)過(guò)程中有水蒸氣參與,導(dǎo)致使用該方法制備的SiO2-TiO2玻璃中羥基含量較高且難以控制。


間接合成法


氣相軸向沉積法和和管外氣相沉積法均屬于間接合成法,兩者的原理相同,主要區(qū)別在于燃燒器及沉積體的布置方式不同。其中,VAD法中沉積體的布置方式為立式,燃燒器固定在底部對(duì)準(zhǔn)沉積體的底部端面進(jìn)行沉積;OVD法的沉積體為臥式,在疏松體沉積過(guò)程中燃燒器做往復(fù)運(yùn)動(dòng)。


VAD法制備SiO2-TiO2玻璃


間接合成法首先將含硅和含鈦的原料分別氣化,在氣體狀態(tài)下將兩種原料混合均勻,然后使混合原料發(fā)生水解反應(yīng)生成低密度的二氧化硅疏松體,隨后將疏松體在特定環(huán)境中進(jìn)行二次燒結(jié)除去內(nèi)部的水分及氣體最終形成玻璃體。與CVD法相比,間接合成法沉積過(guò)程所需溫度低,沉積效率高且摻雜量更為均勻,在燒結(jié)過(guò)程還可以根據(jù)需求對(duì)玻璃內(nèi)部羥基缺陷進(jìn)行控制,但受低溫沉積工藝水平的影響,目前制備大規(guī)格合成石英玻璃較為困難。


OVD法制備SiO2-TiO2玻璃


溶膠-凝膠法


溶膠-凝膠法是用含硅化合物和含鈦化合物(如硅烷和鈦酸酯溶液)在水性介質(zhì)中發(fā)生水解反應(yīng),縮聚合成SiO2-TiO2溶膠,然后使溶膠老化形成SiO2-TiO2凝膠,干燥SiO2-TiO2凝膠形成多孔SiO2-TiO2主體,最后加熱SiO2-TiO2主體形成SiO2-TiO2玻璃。


超低膨脹石英玻璃的應(yīng)用


半導(dǎo)體領(lǐng)域


近年來(lái),隨著半導(dǎo)體集成電路的發(fā)展,制造半導(dǎo)體器件的光刻工藝也提升。隨著市場(chǎng)對(duì)半導(dǎo)體器件精度需求的提髙,半導(dǎo)體光刻工藝向極紫外光刻法發(fā)展,極紫外光刻必須使用反射式多層堆疊系統(tǒng)作為光掩模,但多層堆疊的方式導(dǎo)致光掩模最大反射率較低,未被反射的輻射在被光掩模吸收后以熱量的形式傳導(dǎo)至光掩;鍖(dǎo)致光掩模整體溫度提高。隨著使用時(shí)間的增加熱量不斷累積,嚴(yán)重時(shí)可以導(dǎo)致光掩模的變形。而輕微變形就會(huì)導(dǎo)致被照射晶片上的成像誤差,在芯片生產(chǎn)過(guò)程中造成嚴(yán)重的經(jīng)濟(jì)損失。選擇熱膨脹系數(shù)接近于零的超低膨脹玻璃能夠有效地避免發(fā)生變形現(xiàn)象。


航空航天領(lǐng)域


在航空航天和天文學(xué)領(lǐng)域中,要求反射光學(xué)元件具備高度輕量化的特性,并且能夠在溫度波動(dòng)時(shí)保持其面形精確度。鑒于卓越的熱穩(wěn)定性、良好的可焊接性能和極高的抗變形強(qiáng)度,SiO2-TiO2玻璃是制備反射鏡的理想材料,可以應(yīng)對(duì)多種極端使用環(huán)境,在國(guó)防工業(yè)、航空航天等領(lǐng)域具有不可替代的作用。


參考來(lái)源:

張寒等.超低膨脹合成石英玻璃關(guān)鍵制造工藝研究

王婷等.低膨脹石英玻璃的制備技術(shù)與發(fā)展趨勢(shì)

劉志龍等.超低膨脹玻璃的發(fā)展及應(yīng)用


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