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新安納新專利,碳化硅拋光能力節(jié)節(jié)高


來源:中國粉體網(wǎng)   山林

[導(dǎo)讀]  上海新安納電子科技有限公司申請?zhí)蓟杈珤佉簩@瑨伖赓|(zhì)量和速率得以提升。

中國粉體網(wǎng)訊  2024年11月26日,國家知識產(chǎn)權(quán)局信息顯示,上海新安納電子科技有限公司申請一項名為“一種碳化硅精拋液”的專利,此專利能提升拋光液的拋光質(zhì)量和速率。


 

發(fā)明專利申請 來源:國家知識產(chǎn)權(quán)局


新安納:專門致力于電子級納米磨料和拋光液技術(shù)開發(fā)、生產(chǎn)、銷售和服務(wù)的高科技企業(yè)


上海新安納電子科技有限公司成立于2008年7月,是一家專門致力于電子級納米磨料和拋光液技術(shù)開發(fā)、生產(chǎn)、銷售和服務(wù)的高科技企業(yè)。


公司廠房面積為3400m2 ,其中包括萬級和局部百級的凈化室,建有先進的電子級磨料和拋光液生產(chǎn)線,擁有完整的磨料和拋光液制備、檢測、拋光驗證系統(tǒng),按ISO9000質(zhì)量體系進行管理,是目前中國技術(shù)領(lǐng)先的電子級膠體二氧化硅、藍寶石拋光液和硅片拋光液供應(yīng)商,產(chǎn)品質(zhì)量和技術(shù)能力得到了國內(nèi)外知名公司的認可,多款產(chǎn)品已經(jīng)成功替代美國進口,如卡博特公司(Cabot)和圣戈班公司等。


 

上海新安納電子科技有限公司 來源:新安納官網(wǎng)


公司注重新產(chǎn)品的開發(fā)和質(zhì)量的提升,與國內(nèi)外著名研究機構(gòu)、國際知名半導(dǎo)體公司共同成立拋光材料聯(lián)合實驗室,形成產(chǎn)、學(xué)、研聯(lián)盟,并承擔了國家“十一五”、“十二五”重大專項、863、973、上海市科委重點等項目,榮獲多項榮譽。


 

來源:新安納官網(wǎng)


經(jīng)過十多年的發(fā)展,新安納公司實現(xiàn)了從原料硅溶膠到成品拋光液的全產(chǎn)業(yè)鏈整合,實現(xiàn)國內(nèi)LED市場占有率達6成以上,遙遙領(lǐng)先同類其它企業(yè)。


新專利助力提高拋光液拋光質(zhì)量、提升拋光液拋光速率


上海新安納電子科技有限公司有著10多年的CMP化學(xué)機械拋光液行業(yè)經(jīng)驗,產(chǎn)品包括藍寶石拋光液、碳化硅拋光液、氧化鋁拋光液、硅片拋光液、LT鉭酸鋰(LiTaO3)拋光液、襯底拋光液、LED背面減薄拋光液、金屬拋光液、不銹鋼拋光液、鋁合金拋光液、鏡面拋光液等。


碳化硅(SiC)單晶材料作為第三代寬帶隙半導(dǎo)體材料的代表,由于其具有禁帶寬度大(~Si的3倍)、高熱導(dǎo)率(~Si的3.3倍或GaAs的10倍)、高電子飽和遷移速率(~Si的2.5倍)、高擊穿電場(~Si的10倍或GaAs的5倍)等突出特性,在高溫、高壓、高頻、大功率電子器件領(lǐng)域和航天、軍工、核能等極端環(huán)境應(yīng)用領(lǐng)域有著不可替代的優(yōu)勢,彌補了傳統(tǒng)半導(dǎo)體材料器件在實際應(yīng)用中的缺陷,正逐漸成為功率半導(dǎo)體的主流。


 

來源:新安納官網(wǎng)


公司此次發(fā)明公開的碳化硅精拋液相關(guān)專利,包括有研磨劑顆粒、雙氧水、催化劑、催化劑助劑、分散劑、pH調(diào)節(jié)劑,余量為去離子水,研磨劑顆粒包括有氧化硅顆粒,催化劑包括有鎢酸鹽。此發(fā)明的碳化硅拋光液,充分發(fā)揮了催化劑‑雙氧水兩者對碳化硅拋光高效的特性,相比于單純的只含有雙氧水的拋光液,擁有更高的氧化性。通過選擇合理的磨料顆粒和氧化試劑并進行合理組合,使得拋光液的拋光質(zhì)量、拋光速率亦獲得很大提升,尤其適用于難加工的含硅表面的超精密光學(xué)器件或半導(dǎo)體功率器件的表面拋光,是理想的半導(dǎo)體化合物晶圓制造的亞納米級光潔度的碳化硅拋光液材料。


參考來源:

[1] 金融界

[2] 國家知識產(chǎn)權(quán)局

[3] 新安納官網(wǎng)


(中國粉體網(wǎng)編輯整理/山林)

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