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【展商推薦】聯(lián)盛半導(dǎo)體科技(無錫)有限公司邀您出席2024半導(dǎo)體行業(yè)用金剛石材料技術(shù)大會


來源:中國粉體網(wǎng) 粉享匯   粉享匯

[導(dǎo)讀]  2024半導(dǎo)體行業(yè)用金剛石材料技術(shù)大會將于2024年12月24日在鄭州舉辦。

中國粉體網(wǎng)訊  隨著半導(dǎo)體技術(shù)的飛速發(fā)展,材料創(chuàng)新成為突破性能瓶頸的關(guān)鍵。金剛石憑借其卓越的硬度、導(dǎo)熱性及潛在的半導(dǎo)體特性,在半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈中的多個環(huán)節(jié)中已展現(xiàn)出巨大的發(fā)展?jié)摿蛻?yīng)用價值。其中,金剛石微粉作為磨拋料,以其超精密加工能力,顯著提升了半導(dǎo)體晶片的表面質(zhì)量和生產(chǎn)效率,成為半導(dǎo)體制造不可或缺的一環(huán)。


從2024半導(dǎo)體行業(yè)用金剛石材料技術(shù)大會組委會獲悉,本屆會議將于2024年12月24日在鄭州舉辦。聯(lián)盛半導(dǎo)體科技(無錫)有限公司作為參展單位邀請您共同出席。




企業(yè)簡介     

 

我們產(chǎn)品服務(wù)的領(lǐng)域包括硅材料、化合物半導(dǎo)體材料等,主要設(shè)備有:全自動RCA清洗機、全自動鍍鎳鍍金清洗機、全自動最終清洗機、全自動腐蝕減薄清洗機、全自動去邊清洗機、全自動溝槽蝕刻機、全自動二氧化硅蝕刻、爐管清洗機、CVD前清洗機、CDS(SDS)系統(tǒng)、BClean、0xideRemove、Nitride Remove、PR Strip,lift off、ParticleRemove, Solvent Clean、 MetalEtch, M2 Clean。


產(chǎn)品簡介


全自動單片清洗機





1、用于硅、碳化硅、氮化鎵等半導(dǎo)體材料的單片腐蝕、清洗、刷洗工藝。

2、機臺可實現(xiàn)多尺寸兼容(4&6寸;6&8寸;8&12寸)。

3、工藝腔體經(jīng)過優(yōu)化設(shè)計,高性能FFU,配合可調(diào)節(jié)高度的CUP,形成一個穩(wěn)定強度的downflow,嚴格控制wafer表面工藝區(qū)域的動態(tài)環(huán)境。

4、可以實現(xiàn)藥液(酸/堿/有機)的排廢分離,無藥液的交叉污染。

5、可適用襯底及外延清洗、PRstrip、Oxideremoval等工藝。

6、支持 GEM/SECS 協(xié)議,支持MES 系統(tǒng)聯(lián)機。


全自動腐蝕機




1、晶圓浸泡式腐蝕清洗,特制轉(zhuǎn)籠晶圓自動旋轉(zhuǎn)和提拉。

2、工藝結(jié)果具備高度的均勻一致性,確保腐蝕效果。

3、氮氣鼓泡功能,運行中氮氣管路可在酸槽內(nèi)平行均勻移動,鼓泡速率可調(diào)節(jié)。

4、化學(xué)藥液多級精細過濾,循環(huán)利用并自動補液。

5、具有MES系統(tǒng)的信息交互通訊能力。

6、化學(xué)藥液具備InLine加熱冷卻恒溫功能。

7、提供標準的制程解決方案。

8、腐蝕精度:平整度增量δTTV<1.5 μm

9、加工能力: 晶片直徑4英寸至12英寸,每次數(shù)量75片/6英寸,50片/8英寸/12英寸。

10、清洗機通過硬件、軟件配置來較大限度的保護硅片,在異常狀況下設(shè)備出現(xiàn)Down機。

11、專利號:202311724028,2020208029174,202020802916X,2020208029051,2020208029051.



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會務(wù)組

聯(lián)系人:劉文寶

電 話:13693335961(同微信)    

Email :1791805714@qq.com




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