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新工藝助力氮化鋁陶瓷拋光


來源:中國粉體網(wǎng)   山林

[導讀]  科菲材料技術(shù)(浙江)有限公司取得一項名為“一種氮化鋁陶瓷拋光工藝”的專利。

中國粉體網(wǎng)訊  2024年12月27日消息,國家知識產(chǎn)權(quán)局信息顯示,科菲材料技術(shù)(浙江)有限公司取得一項名為“一種氮化鋁陶瓷拋光工藝”的專利,助力獲得表面粗糙度小且無刮傷的氮化鋁陶瓷基板。


  

發(fā)明專利申請 來源:國家知識產(chǎn)權(quán)局


氮化鋁是原子晶體,屬類金剛石氮化物,最高可穩(wěn)定到2200℃。室溫強度高,且強度隨溫度的升高下降較慢。導熱性好,熱膨脹系數(shù)小,是良好的耐熱沖擊材料?谷廴诮饘偾治g的能力強,是熔鑄純鐵、鋁或鋁合金理想的坩堝材料。氮化鋁還是電絕緣體,介電性能良好,用作電器元件也很有希望。砷化鎵表面的氮化鋁涂層,能保護它在退火時免受離子的注入。氮化鋁還是由六方氮化硼轉(zhuǎn)變?yōu)榱⒎降鸬拇呋瘎。室溫下與水緩慢反應(yīng),可由鋁粉在氨或氮氣氛中800~1000℃合成,產(chǎn)物為白色到灰藍色粉末。


氮化鋁的拋光對其應(yīng)用來說十分重要。化學機械拋光( CMP )是一種工件表面全局平坦化的工藝技術(shù),被應(yīng)用于微納米級材料表面的拋光;瘜W機械拋光系統(tǒng)主要由拋光液、拋光墊和拋光頭三部分組成,其基本原理是工件材料表面與拋光液中的氧化劑發(fā)生化學反應(yīng),生成一層軟質(zhì)層,在外加壓力下磨粒與工件材料表面發(fā)生機械磨削作用去除軟質(zhì)層,然后工件表面再次發(fā)生化學反應(yīng),通過化學作用和機械作用交替進行,直至工件表面拋光完成。


科菲材料技術(shù)(浙江)有限公司本次發(fā)明屬于研磨拋光技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種氮化鋁陶瓷拋光工藝。該拋光工藝包括以下步驟:將氮化鋁陶瓷基板置于拋光墊上,加入拋光液進行拋光;所述拋光液由如下重量份組分制成:將15‑20份復合磨料、2‑4份氧化劑、8‑10份功能化合物和60‑70份水混合成溶液,并使用有機酸調(diào)節(jié)溶液的pH值為4‑4.5。發(fā)明所提供的拋光液具有良好的懸浮穩(wěn)定性及抑菌性能,使用拋光液對氮化鋁陶瓷基板進行拋光處理,具有較高的拋光速率,拋光效果好,能夠獲得表面粗糙度小且無刮傷的氮化鋁陶瓷基板。


 

來源:國家知識產(chǎn)權(quán)局


科菲材料技術(shù)(浙江)有限公司前身為衢州市科飛陶瓷有限公司,創(chuàng)辦于2008年,是申瀾材料的成員企業(yè)。公司是一家充滿活力的科技型創(chuàng)業(yè)公司,主要從事與半導體先進封裝相關(guān)的電子陶瓷封裝基板的研發(fā)、生產(chǎn)、銷售與服務(wù)。公司堅持材料制備與精密加工的緊密結(jié)合,為客戶提供快速的一站式綜合解決方案。公司以技術(shù)為支點,以高速發(fā)展的先進封裝技術(shù)為基礎(chǔ),專業(yè)生產(chǎn)及加工高性能氮化鋁、氧化鋁、微波介質(zhì)材料、石英、藍寶石等各類電子功能材料。以材料為基礎(chǔ),應(yīng)用為導向,面向微電子、光電子、功率電子、微波射頻等領(lǐng)域,為技術(shù)發(fā)展提供材料支撐。


 

來源:科菲材料技術(shù)(浙江)有限公司官網(wǎng)


參考來源:

[1] 王東哲等,化學機械拋光液的研究現(xiàn)狀

[2] 科菲材料技術(shù)(浙江)有限公司官網(wǎng)

[3] 國家知識產(chǎn)權(quán)局


(中國粉體網(wǎng)編輯整理/山林)

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