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半導(dǎo)體設(shè)備巨頭!盛美終止韓國(guó)項(xiàng)目!


來(lái)源:中國(guó)粉體網(wǎng)   山林

[導(dǎo)讀]  盛美上海近日發(fā)布公告,宣布其董事會(huì)已批準(zhǔn)終止原計(jì)劃中的“盛美韓國(guó)半導(dǎo)體設(shè)備研發(fā)與制造中心”項(xiàng)目。

中國(guó)粉體網(wǎng)訊  近日,盛美半導(dǎo)體設(shè)備(上海)股份有限公司發(fā)布公告,宣布其董事會(huì)已批準(zhǔn)終止原計(jì)劃中的“盛美韓國(guó)半導(dǎo)體設(shè)備研發(fā)與制造中心”項(xiàng)目,并將原計(jì)劃投入該項(xiàng)目的24,500萬(wàn)元募集資金,變更至首次公開(kāi)發(fā)行股票募集資金投資項(xiàng)目“盛美半導(dǎo)體設(shè)備研發(fā)與制造中心”。



盛美半導(dǎo)體設(shè)備(上海)股份有限公司(以下簡(jiǎn)稱(chēng)“盛美上!保┏闪⒂2005年,是上海市政府科教興市項(xiàng)目重點(diǎn)引進(jìn)的集成電路裝備企業(yè),是具備世界先進(jìn)技術(shù)的半導(dǎo)體設(shè)備制造商。盛美上海集研發(fā)、設(shè)計(jì)、制造、銷(xiāo)售于一體,為全球客戶(hù)提供高端半導(dǎo)體設(shè)備。主要產(chǎn)品有單晶圓及槽式濕法清洗設(shè)備、電鍍?cè)O(shè)備、無(wú)應(yīng)力拋光設(shè)備、立式爐管設(shè)備、前道涂膠顯影設(shè)備及PECVD設(shè)備等。


 

來(lái)源:盛美半導(dǎo)體設(shè)備(上海)股份有限公司官網(wǎng)


盛美上海無(wú)應(yīng)力拋光設(shè)備可應(yīng)用于雙大馬士革和晶圓級(jí)封裝,其應(yīng)用的無(wú)應(yīng)力拋光技術(shù)是盛美半導(dǎo)體電化學(xué)電鍍技術(shù)的一個(gè)反向技術(shù),均基于電化學(xué)原理,晶圓被固定在夾具上旋轉(zhuǎn),并與拋光電源相連接作為陽(yáng)極;同時(shí)電化學(xué)拋光液被噴射至晶圓表面,在電流作用下金屬離子從晶圓表面被去除。在硅通孔和扇出工藝應(yīng)用中,先進(jìn)封裝級(jí)無(wú)應(yīng)力拋光技術(shù)通過(guò)三步工藝,有效的解決其他工藝所引起的晶圓應(yīng)力。在硅通孔工藝中,首先采用無(wú)應(yīng)力拋光工藝去除表層的電鍍沉積后的銅層,保留0.2μm厚度;然后采用化學(xué)機(jī)械研磨工藝進(jìn)行平坦化將剩余銅層去除,停止至鈦?zhàn)钃鯇樱蛔詈笫褂脻穹ǹ涛g工藝將暴露于表面的非圖形結(jié)構(gòu)內(nèi)鈦?zhàn)钃鯇尤コ,露出阻擋層下層的氧化層。在扇出工藝中的再布線層(RDL)平坦化應(yīng)用中,同樣的工藝能夠被采用,用于釋放晶圓應(yīng)力,去除表層銅層和阻擋層。


 

來(lái)源:盛美半導(dǎo)體設(shè)備(上海)股份有限公司官網(wǎng)


關(guān)于“盛美韓國(guó)半導(dǎo)體設(shè)備研發(fā)與制造中心”項(xiàng)目的終止,盛美上海給出了兩方面的主要原因。


1. 中韓兩國(guó)法律制度存在差異,公司在尋找合格的境外銀行以及四方監(jiān)管協(xié)議的擬定、簽署方面遇到了一定難度。經(jīng)過(guò)各方多輪磋商,募集資金四方監(jiān)管協(xié)議直到2024年6月末才完成簽署。這一延遲影響了項(xiàng)目資金的及時(shí)到位,進(jìn)而推遲了項(xiàng)目的建設(shè)實(shí)施。


2. 隨著2024年上半年全球營(yíng)商環(huán)境的不斷變化,盛美上海認(rèn)為此時(shí)進(jìn)行大規(guī)模的固定資產(chǎn)投資存在較大的不確定性,特別是公司及盛美韓國(guó)在2024年12月2日被美國(guó)工業(yè)和安全局列入“實(shí)體清單”,進(jìn)一步印證了這一判斷。因此,為了維護(hù)公司和股東的利益,規(guī)避潛在風(fēng)險(xiǎn),盛美上海決定終止該項(xiàng)目。


由于“盛美半導(dǎo)體設(shè)備研發(fā)與制造中心”項(xiàng)目建筑主體基本完工,后續(xù)還剩余部分建筑的內(nèi)部裝修、部分設(shè)備的采購(gòu)和調(diào)試安裝、建筑頂部和周?chē)木G化工程尚待完成。為保障項(xiàng)目順利推進(jìn),加快項(xiàng)目整體投產(chǎn)進(jìn)度,公司擬將原計(jì)劃投入“盛美韓國(guó)半導(dǎo)體設(shè)備研發(fā)與制造中心”的募集資金24,500萬(wàn)元變更用于“盛美半導(dǎo)體設(shè)備研發(fā)與制造中心”,提高募集資金使用效率和優(yōu)化資源配置的考慮,加快項(xiàng)目建設(shè)進(jìn)度,確保公司產(chǎn)能建設(shè)目標(biāo)的實(shí)現(xiàn)。


參考來(lái)源:

中國(guó)表面處理網(wǎng)、半導(dǎo)體封測(cè)、盛美半導(dǎo)體設(shè)備(上海)股份有限公司官網(wǎng)、巨潮資訊網(wǎng)


(中國(guó)粉體網(wǎng)編輯整理/山林)

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