SiliconTech2025國(guó)際硅材料產(chǎn)業(yè)展覽會(huì)暨2025國(guó)際石英及石英材料產(chǎn)業(yè)展覽會(huì)將于2025年4月23-25日在南京國(guó)際博覽中心隆重舉行！本次展會(huì)的規(guī)模將達(dá)到10，000平米，展商300+，配套活動(dòng)10+，專業(yè)觀眾20，000+，屆時(shí)將有全國(guó)各地的優(yōu)秀展商和專業(yè)買家齊聚一堂，共襄商機(jī)。深圳市智合碳硅科技有限公司邀您共同出席2025國(guó)際硅材料產(chǎn)業(yè)展覽會(huì)。
深圳市智合碳硅科技有限公司于2019年6月成立。創(chuàng)立宗旨是：科研為本、創(chuàng)新立足。為此，公司以研發(fā)和創(chuàng)新為主要發(fā)展方向，以打造碳硅新材料領(lǐng)域的產(chǎn)品項(xiàng)目為目標(biāo)。經(jīng)前期十幾年的研究沉淀及成果延伸，公司已開發(fā)出 “超臨界水熱法制備高純硅”、“超純石墨烯”、“超高能正負(fù)極材料”“磁控亞核聚變制高能材料”等材料的研發(fā)項(xiàng)目。公司建立了超臨界流體制備先進(jìn)材料試驗(yàn)室，并建立了“超臨界水熱提純金屬”、超臨界水熱制備太陽(yáng)能級(jí)硅、電子級(jí)硅、高純二氧化硅、超純石墨烯等產(chǎn)品的示范工廠。
產(chǎn)品介紹
1.超(亞)臨界流體提純石英砂技術(shù)
超(亞)臨界流體提純技術(shù)，是在超過(guò)或拒于介質(zhì)流體臨界溫度和壓力條件下，對(duì)石英砂進(jìn)行提純的方法。在超(亞)臨界的高溫高壓下，流體能夠?qū)κ⒕w內(nèi)的雜質(zhì)進(jìn)行有效去除將石英砂的純度提純至6N-10N，尤其對(duì)鐵、鉀、鈉、鋰離子的清除十分有效，對(duì)有機(jī)雜質(zhì)的清除更是零容忍。該方法高效、環(huán)保、低成本，是替代傳統(tǒng)提純工藝的新技術(shù)。傳統(tǒng)的高純石英砂的提純方法一般采用氯化提純法，通過(guò)破碎、浮選、酸洗等工藝后進(jìn)行高溫氯化提純，是當(dāng)前二氯比硅提純的主要方法。但是，氯化提純法一般僅適合于特殊晶型的石英沙，且對(duì)石英晶體有損傷，對(duì)石英晶體內(nèi)的雜質(zhì)清除效果不佳，并存在環(huán)保和安全問(wèn)題。
石英晶格取代雜質(zhì)是最難分離的雜質(zhì)之一，傳統(tǒng)分離方法對(duì)去除石英晶格中的AI等元素?zé)o能為力，超(亞)臨界流體提純法對(duì)晶格中這些雜質(zhì)具有良好的去除能力。該方法避免了使用氫氟酸、氯氣、氯化氫氣體等對(duì)環(huán)境不友好且危險(xiǎn)性高的物質(zhì)，在環(huán)保、安全前提下，對(duì)石英沙進(jìn)行高效提純，使石英砂純度達(dá)到99.9998%以上，通過(guò)調(diào)整不同的溫度壓力條件,可以使石英砂純度達(dá)到更高的99.9999%-99.99999999%，能夠廣泛用于半導(dǎo)體用石英砂，和芯片用硅、光纖用硅、手機(jī)屏用硅等超高純石英砂領(lǐng)域。
2. 光掩膜基板石英砂
光掩膜基板是芯片制造中光刻工藝所使用的圖形母板，由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜圖形，并通過(guò)曝光將圖形轉(zhuǎn)印到產(chǎn)品基上，是光刻工藝中最重要的耗材之一。光掩膜板的原材料主要為石英基板，石英基板的原材料為高純石英，這種石英一般細(xì)度高、純度高、具有高硬度，低膨脹系數(shù)和高透光性。騰達(dá)智合研制生產(chǎn)的光掩膜基板石英砂，可以應(yīng)用于LSI光掩膜、FPD大型掩膜的制造。能夠提供較寬的光投射區(qū)域、較低的雜質(zhì)含量和較少的物理缺陷，并且隨著低膨脹率和深UV的要求變得逐漸廣泛。光掩膜基板及其原材料多年來(lái)依賴進(jìn)口，原材料主要由日本和韓國(guó)企業(yè)壟斷，目前國(guó)內(nèi)有數(shù)家企業(yè)可以生產(chǎn)中小尺寸的基板，一般 只應(yīng)用于TP、PCB等低端行業(yè)，半導(dǎo)體用高精高及高世代面板用基材，主要依靠進(jìn)口。
本產(chǎn)品根據(jù)光掩膜石英基板的現(xiàn)行標(biāo)準(zhǔn)GBTT34178-2017石英基板中13種雜質(zhì)元素(A1、Fe、Ca、Mg、Ti、Cu、Co、Mn、Ni、Li、Na、K、B)含量的質(zhì)量分?jǐn)?shù)總和不大于2.0ppm。其中Li、Na、K三種雜質(zhì)元素含量的質(zhì)量分?jǐn)?shù)之和不大于1.0ppm，單一雜質(zhì)元素含量質(zhì)量分?jǐn)?shù)不大于0.5ppm。
3. TFT石英粉產(chǎn)品介紹
TFT石英粉主要用于生產(chǎn)液晶顯示破璃基板，該石英粉以其優(yōu)異的物理和化學(xué)性能滿足了精密制造的需求，在電子工業(yè)、新能源、化學(xué)工業(yè)等方面，展現(xiàn)出巨大的應(yīng)用潛力，前景廣闊。TFT石英粉的制備過(guò)程包括分揀、破碎、水洗、提純、烘干、除鐵、研磨、分級(jí)等工序，以確保其質(zhì)量和純度。
我公司生產(chǎn)的TFT石英粉，以天然石英為原料，經(jīng)過(guò)一系列提純及粒度分級(jí)工藝，做出高品質(zhì)的產(chǎn)品，并實(shí)現(xiàn)規(guī)模化生產(chǎn)。產(chǎn)品具有硬度高、耐磨、耐高溫、耐酸堿、高絕緣性、化學(xué)性能穩(wěn)定等特點(diǎn)，熔點(diǎn)高達(dá)1650℃，這些特性使得TFT石英粉在名種工業(yè)應(yīng)用中表現(xiàn)出色，尤其是在需要高精度和高純度的制造過(guò)程中。
4.半導(dǎo)體坩堝石英砂
半導(dǎo)體石英坩堝采用比光伏石英坩堝更純的石英砂，一二氧化硅純度大于5N，總雜質(zhì)含量低于10ppm，氣液包裹體含量低于100ppm，而坩堝內(nèi)層要求需達(dá)到8N以上純度。
半導(dǎo)體坩堝與光伏坩鍋雜質(zhì)元素含量對(duì)比
我公司生產(chǎn)的半導(dǎo)體坩堝石英砂，依據(jù)《半導(dǎo)體單晶硅生長(zhǎng)用石英坩堝生產(chǎn)規(guī)范》、《單晶硅生長(zhǎng)用石英坩堝》標(biāo)準(zhǔn)進(jìn)行生產(chǎn)半導(dǎo)體石坩堝石英砂的中層砂達(dá)到5N8級(jí),內(nèi)層砂達(dá)到8N級(jí)。
5.電子級(jí)硅微粉
電子級(jí)硅微粉一般指粒度高于300目以上的高純石英粉，主要用于電子封裝、塑料、涂料、橡膠、陶瓷、膠粘劑、玻流鋼、化妝品、醫(yī)藥等行業(yè)，現(xiàn)已拓展至高分子復(fù)合材料、航空航天、精細(xì)化工、抗菌材料、藥物載體及大面積電子基板等高新領(lǐng)域，享有“材料科學(xué)的原點(diǎn)”和“工業(yè)味精"之美譽(yù)。
電子級(jí)硅微粉的生產(chǎn)原料一般為低電導(dǎo)率、低氯、低羥基的高純石英砂，經(jīng)細(xì)磨、酸洗、提純和高溫焙燒除鐵工藝后加工而成,分為不同類型和等級(jí)。
我公司生產(chǎn)的電子級(jí)硅微粉從300目-5000目不同級(jí)別，主要應(yīng)用于電子封裝，大面積電子基板領(lǐng)域，可根據(jù)市場(chǎng)需求訂制生產(chǎn)。
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