中國(guó)粉體網(wǎng)訊  化學(xué)機(jī)械拋光（Chemical Mechanical Polishing, CMP）是一種結(jié)合化學(xué)腐蝕與機(jī)械研磨的表面處理技術(shù)，是實(shí)現(xiàn)材料高精度平坦化的有效途徑。磨料在拋光過(guò)程中通過(guò)微切削、微擦劃、滾壓等方式作用于被加工材料表面，達(dá)到機(jī)械去除材料的作用。

以二氧化鈰為核心的稀土拋光磨料因其硬度適中、反應(yīng)活性高、選擇性高而表現(xiàn)出具有更高的切削速度、拋光精度和表面光潔度，在半導(dǎo)體、光學(xué)元件、液晶顯示屏等高端制造領(lǐng)域不可替代。全球電子產(chǎn)品（如智能手機(jī)、平板電腦、新能源汽車等）爆發(fā)式增長(zhǎng)，半導(dǎo)體市場(chǎng)大規(guī)模擴(kuò)張，帶動(dòng)了稀土拋光材料需求的激增。

現(xiàn)存拋光材料存在磨料粒度分布寬、分散性差，拋光液懸浮穩(wěn)定性差問(wèn)題，這嚴(yán)重制約了我國(guó)稀土拋光材料的應(yīng)用。研究表明，磨料顆粒的形貌、尺寸、分散懸浮性能以及二氧化鈰中鈰離子含量對(duì)拋光去除率和表面粗糙度有著重要影響。因此，設(shè)計(jì)和開(kāi)發(fā)新型高性能稀土拋光磨料，對(duì)其粒度、形貌進(jìn)行嚴(yán)格控制，并對(duì)其化學(xué)活性實(shí)現(xiàn)有效調(diào)控、抑制磨料顆粒間的團(tuán)聚來(lái)提高磨料分散懸浮穩(wěn)定性，是提升拋光效率和降低表面缺陷的重要途徑，也是實(shí)現(xiàn)稀土拋光材料高端化的重要方向。

研磨拋光技術(shù)在集成電路芯片的制作中具有重要作用，針對(duì)高端研磨拋光相關(guān)的技術(shù)、材料、設(shè)備、市場(chǎng)等方面的問(wèn)題，中國(guó)粉體網(wǎng)將于2025年4月16日在河南鄭州舉辦2025第二屆高端研磨拋光材料技術(shù)大會(huì)。屆時(shí)，包頭稀土研究院高級(jí)工程師李曉佩將作題為《鈰基稀土拋光材料設(shè)計(jì)合成及拋光性能調(diào)控》的報(bào)告。

專家簡(jiǎn)介：

李曉佩，包頭稀土研究院高級(jí)工程師，主要從事鈰基稀土拋光材料的設(shè)計(jì)制備、性能優(yōu)化及其產(chǎn)業(yè)化應(yīng)用研究。中國(guó)稀土學(xué)會(huì)稀土高性能制造專委會(huì)委員、中國(guó)化學(xué)會(huì)會(huì)員、內(nèi)蒙古稀土學(xué)會(huì)會(huì)員、九三學(xué)社包頭市委參政議政研究員。主持包頭市項(xiàng)目1項(xiàng)、北方稀土項(xiàng)目1項(xiàng)，參與國(guó)家自然科學(xué)基金面上項(xiàng)目1項(xiàng)、內(nèi)蒙古科技重大專項(xiàng)1項(xiàng)、北方稀土項(xiàng)目2項(xiàng)。發(fā)表期刊論文十余篇，申請(qǐng)國(guó)家發(fā)明專利十余項(xiàng)。2024年獲內(nèi)蒙古自治區(qū)“英才興蒙”六層次人才稱號(hào)，2023年獲包頭市青年創(chuàng)新人才榮譽(yù)，獲得中國(guó)稀土學(xué)會(huì)優(yōu)秀報(bào)告2次，獲得包頭稀土研究院女職工雙文明建功立業(yè)先進(jìn)個(gè)人2次，獲得全國(guó)高分子學(xué)術(shù)論文報(bào)告會(huì)“優(yōu)秀墻報(bào)獎(jiǎng)”2次，獲得九三學(xué)社包頭市2024年度參政議政工作先進(jìn)個(gè)人。

參考來(lái)源：

[1] 中國(guó)粉體網(wǎng)

[2] 燕禾等，化學(xué)機(jī)械拋光技術(shù)研究現(xiàn)狀及發(fā)展趨勢(shì)

（中國(guó)粉體網(wǎng)編輯整理/山林）

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