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蘇州錦業(yè)源自動化與您相約重慶!2025第二屆全國高純氧化鋁粉體制備技術(shù)及應用交流大會


來源:中國粉體網(wǎng) 粉享匯   粉享匯

[導讀]  2025第二屆全國高純氧化鋁粉體制備技術(shù)及應用交流大會,9月19日,相約中國·重慶

中國粉體網(wǎng)訊 高純氧化鋁粉體具有普通氧化鋁無法比擬的光、電、磁、熱和機械性能,是配套航天航空、半導體、核能、新能源、冶金、生物醫(yī)療、照明、機械、化工等眾多工程領(lǐng)域的重要新材料,是現(xiàn)代化工附加值最高、應用最廣泛的高端材料之一。在此背景下,中國粉體網(wǎng)將在中國·重慶舉辦2025第二屆全國高純氧化鋁粉體制備技術(shù)及應用交流大會,大會旨在搭建高純氧化鋁上下游技術(shù)交流、信息互通的溝通平臺,促進我國高純氧化鋁行業(yè)技術(shù)與產(chǎn)業(yè)發(fā)展突破。


2025第二屆全國高純氧化鋁粉體制備技術(shù)及應用交流大會組委會獲悉,本屆會議將于2025年9月19日中國重慶舉辦。蘇州錦業(yè)源自動化設備有限公司作為參展單位邀請您共同出席。




蘇州錦業(yè)源自動化設備有限公司(隸屬于錦源科技控股有限公司)成立于2011年8月,是一家專業(yè)從事半導體封裝、電子陶瓷(LTCC,HTCC)生產(chǎn)及設備代理的專業(yè)服務商,尤為擅長提供微組裝整線及電子陶瓷整線工藝、生產(chǎn)解決方案和技術(shù)支援。


目前,公司主要合作伙伴來自歐洲及日本,合力為業(yè)界廣大客戶提供一流的產(chǎn)品及方案,同時提供專業(yè)技術(shù)顧問,咨詢服務。


公司發(fā)展至今,培養(yǎng)了具備核心競爭力的人才團隊,擁有具備專業(yè)素養(yǎng)的若干售前、售后及銷售人員,可積極快速響應客戶要求并提供優(yōu)質(zhì)、高效、稱心的服務,為客戶創(chuàng)造價值,贏得效益。


基于客戶多年來的信任及認可,我們將持續(xù)秉承技術(shù)引領(lǐng)方向、經(jīng)驗規(guī)避風險、服務決定未來、伙伴一起成長!”的宗旨,推動行業(yè)發(fā)展,精心服務用戶,求是創(chuàng)新,更創(chuàng)輝煌!



產(chǎn)品介紹


1、全自動單晶圓清洗機 AST-T02-CL



設備功能及特點:


晶圓全自動清洗機,8”/12” 共享機臺,切換只需更換FOUP內(nèi) Adaptor。

具備多功特性,針對不同應用,集成不同功能。具備高速離心旋轉(zhuǎn)、HPC、二流體、SC1 化學清洗及能加裝兆聲波等功能。

適用于 Particle 清洗、Flux 清洗及光阻殘留清洗等制程 。

流場模擬腔體設計,獨特的密封設計,為制程提供最潔凈的清洗環(huán)境。

友善的軟件接口,提供量產(chǎn)和工程安全便利的芯片制程。


2、單晶圓/陶瓷片超聲波光阻噴涂機




設備功能及特點:


本機是全自動的超聲波噴涂機臺,可實現(xiàn)取片、對位、噴涂、去邊、烘烤、放片等全自動作業(yè)。超聲波噴涂是利用壓電材料將電能轉(zhuǎn)換為機械能,以震蕩的方式來霧化流體,可以得到均勻且微細的涂布液滴,以溫和且微細的液滴從基材正上方開始沉積涂布,階梯覆蓋率的表現(xiàn)更為優(yōu)越,也能有效提高材料利用率。利用轉(zhuǎn)速跟噴頭移動速度做配合,進行連續(xù)性的旋轉(zhuǎn)噴涂,可有效提高產(chǎn)能,更可消除一般設備來回噴涂時,因路徑不同所造成的膜厚落差。并且本機采用大口徑的供料流道設計,能有效避免管路堵塞的發(fā)生,減少設備停機維修時間,提高設備使用的稼動率。腔體結(jié)構(gòu)導入流場數(shù)值模擬規(guī)劃,用以進行優(yōu)化流道幾何設計,避免粒子回流污染涂布腔體。


3、高精度光刻機





設備特點:


UV-LED光源

安全又環(huán)保 無需預熱冷卻


選用 UV-LED 光源不再需 要預熱和冷卻,因為 LED 僅 在曝光期間打開。這些因素 顯著有助于相對較低的能源 消耗。LED 的使用壽命比傳 統(tǒng)燈高出許多倍,從而降低 了更換燈泡所產(chǎn)生的成本。 停工、購買新燈、調(diào)整和處 理舊材料都已成為過去。使 用 LED 燈箱既安全又環(huán)保, 是健康和職業(yè)安全以及環(huán)境 保護方面的重要進步。


高精度自動套刻系統(tǒng)

性能提升 品質(zhì)升級


作為全場曝光系統(tǒng), CI-150A/CI-200A能夠一 次曝光150mm/200mm 晶圓,此系統(tǒng)光均勻性已 超過95%,更能提升產(chǎn) 品品質(zhì)。它更高的吞吐 量和更低的投資成本直 接轉(zhuǎn)化為更低的擁有成 本,使其成為適用于各 種光刻工藝的最佳決方案。


卓越的光均勻性

高精度 更精準


采用頂部對 準系統(tǒng), 選用高 清相機及大視野 鏡頭, 納米級對 位承載平臺以及 低頻隔振系統(tǒng), 在將掩模定位在 晶圓上時可實現(xiàn) 低至 0.5 μm 的 對準精度 。




會務組

聯(lián)系人:李先生

電話:15563675367

郵箱:3261140559@qq.com



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