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新的盤片式研磨機 Discus Intensive 配置了特殊形狀設計的研磨盤，以及其他優(yōu)化裝置，并且可以選用具有高導熱性的高耐磨陶瓷材料。

Discus Intensive研磨系統(tǒng)新的改進主要集中在研磨介質(zhì)的分離系統(tǒng)和停留時間分布的優(yōu)化上。

而在原來的離心分離系統(tǒng)的部分被分為分離區(qū)和研磨區(qū)，使用新的分離系統(tǒng)后整個研磨區(qū)可充滿研磨介質(zhì)。這非常合理地使得研磨介質(zhì)填充體積在不改變研磨腔容量的情況下得到增加。    

我們對各種材料進行測試，結果表明，新開發(fā)的研磨盤，結合新的研磨介質(zhì)分離系統(tǒng)，可有效地防止了產(chǎn)品在腔體中的不恰當流動。對于目前許多需要雙批次操作模式的生產(chǎn)工藝，只需一個批次就可以達到所需的產(chǎn)品質(zhì)量。這就意味著產(chǎn)量的大量增加，在某些情況下，使用同等能源輸入，產(chǎn)量增加甚至遠遠超過100%。不僅僅是產(chǎn)量，還能延長使用壽命，降低維護和備件成本，以及大幅度節(jié)約冷卻所需能源。

由于流量非常大，新的Discus Intensive研磨系統(tǒng)非常靈活，可用于各種物料的研磨。實際工作中，該大流量研磨機既可用于單批次操作，也可用于循環(huán)操作。

Discus Intensive 的優(yōu)勢：

• 更高的生產(chǎn)力

• 低的比能需求

• 粒徑分布顯著變窄

• 高效的研磨介質(zhì)分離系統(tǒng)

• 可靠的工藝放大

• 優(yōu)化的冷卻系統(tǒng)，帶耐馳 Ceram_C 陶瓷內(nèi)膽的研磨腔 并且研磨腔內(nèi)壁帶冷卻水管道

• 高效的循環(huán)工藝