上海依肯機械設備有限公司
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一種新型的高剪切乳化機新技術之研磨分散機(膠體磨)
高剪切分散乳化機技術最早起源于歐洲和美國,發(fā)展至今已形成一門有別于傳統(tǒng)攪拌的新學科,并且還在不斷拓展它的使用領域及技術更新,被使用者譽為“攪拌器的工業(yè)革命” 。
目前的高剪切分散乳化機的主要結構是定子和轉子系統(tǒng),其結構形式也歷經(jīng)更新,從刀片結構至現(xiàn)在的爪式結構,從單片剪切到多層對偶咬合剪切,從單片吸料到雙向吸料,將一個相或多個相高效、快速、均勻地分布到另一個連續(xù)相中;而在通常情況下各個相是互不相溶的,由于轉子高速旋轉所產生的高切線速度和高頻機械效應帶來的強勁動能,使物料在定、轉子狹窄的間隙中受到強烈的機械及液力剪切、離心擠壓、液層摩擦、撞擊撕裂和湍流等綜合作用,從而使不相溶的固相、液相、氣相在相應成熟工藝和適量添加劑的共同作用下,瞬間均勻精細的分散乳化,經(jīng)過高頻的循環(huán)往復,最終得到相對穩(wěn)定的較高品質產品。
因此幾乎所有的工藝流程(包括食品、乳業(yè)、化工、石油、瀝青等行業(yè))都離不開這種多相原料的混合、乳化、粉碎、分散、溶解等過程,傳統(tǒng)的攪拌混合或剪切乳化技術在效率及效果方面由于缺乏了研磨這一關鍵技術因而存在以下明顯的不足:
(1)高速剪切機由于國內加工技術的限制,同心度或同軸度很難得到保證,轉、定子運轉容易卡磨,無法正常運行。
(2)液相與液相、液相與固相混合后通常粘度較高,要確保轉定子正常運轉,其相對間隙不可能低于50um,因此無法保證剪切乳化后的物料細度。
(3)由于上述二種原因的限制,高剪切乳化機轉定子相對轉速較慢,其剪切線速度相對較低,其剪切、粉碎、乳化的效果必然受到嚴重的影響。
(4)由于普通高剪切乳化機轉定子結構的限制,不但乳液的細度得不到保證,而且剪切后形成的乳液容易破乳,無法形成比較穩(wěn)定的乳液分子結構,易沉淀、易離析。
現(xiàn)在有一種新型高剪切膠(錐)體磨是由高剪切分散乳化機和膠(錐)體粉碎磨相結合的新型高科技專利產品,它以強大的生產能力和超越的先進性能,實現(xiàn)了粉碎、研磨、分散、乳化、均質、輸送為一體的多功能設備,從根本上解決了普通高剪切乳化機無法解決的技術難題,是目前的設備。
研磨分散機由電動機、連接體、剪切機、膠體磨或椎體磨等組成,在電動機的高速轉動下物料從進口處直接進入高剪切破碎區(qū),通過一種特殊粉碎裝置,將流體中的一些大粉團、粘塊、團塊等大小顆粒迅速破碎,然后吸入剪切粉碎區(qū),在十分狹窄的工作過道內由于轉子刀片與定子刀片相對高速切割從而產生強烈摩擦及研磨破碎等,在機械運動和離心力的作用下,將已粉碎細化的物料重新壓入精磨區(qū)進行研磨破碎,精磨區(qū)分三級,越向外延伸一級磨片精度越高,齒距越小,物料越磨越細,同時流體逐步向徑向或軸向作曲線延伸。每到一級流體的方向速度瞬間發(fā)生變化,并且受到每分鐘上千萬次的高速剪切、強烈摩擦、擠壓研磨、顆粒粉碎等,在經(jīng)過三個精磨區(qū)的上千萬次的高速剪切、研磨粉碎之后,從而產生液料分子鏈斷裂、顆粒粉碎、液粒撕破等功效使物料充分達到分散、粉碎、研磨、乳化、均質、細化的目的,液料的最小細度可達0.2μm,根據(jù)不同的介質、顆粒、粘度及生產工藝要求,可以為您量身定做,隨您而變,制造出最適合您的設備來,徹底解決您的后顧之憂。
由膠體磨,分散機組合而成的高科技產品。
第YI級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。
第er級由轉定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面,##要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是指定轉子齒的排列,還有一個很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學特征dou能改變定子和轉子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例,依據(jù)以前的經(jīng)驗指定工作頭來滿足一個具體的應用。在大多數(shù)情況下,機器的構造是和具體應用相匹配的,因而它對制造出#終產品是很重要。當不確定一種工作頭的構造是否滿足預期的應用。
CMD2000系列的線速度很高,剪切間隙fei常小,這樣當物料經(jīng)過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結果就是通常所說的濕磨。定轉子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。高質量的表面拋光和結構材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。
濕法粉碎機應用: 化學工業(yè):油漆、顏料、染料、涂料、潤滑油、潤滑脂、柴油、石油催化劑、乳化瀝青、膠粘劑、洗滌劑、塑料、玻璃鋼、皮革、白炭黑,二氧化硅,鈦bai粉,炭黑,石墨烯,碳納米管,富勒烯,凝膠,溶膠,壓裂液 催化劑 纖維 等。 日用化工:牙膏、洗滌劑、洗發(fā)精、鞋油、#級化妝品、沐浴精、肥皂、香脂 BB霜等。 新能源材料:石墨烯、 碳納米管 、碳纖維、 鋰電池漿料、電池隔膜 潤滑油等等
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設備等級:化工級、衛(wèi)生I級、衛(wèi)生II級、無jun級
電機形式:普通馬達、變頻調速馬達、防爆馬達、變頻防爆馬達、
電源選擇: 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ
電機選配件: PTC 熱保護、降噪型
濕法粉碎機材質:SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti,氧化鋯陶瓷
濕法粉碎機選配:儲液罐、排污閥、變頻器、電控箱、移動小車
濕法粉碎機表面處理:拋光、耐mo處理
進出口聯(lián)結形式:法蘭、螺口、夾箍
濕法粉碎機機選配容器:本設備適合于各種不同大小的容器
濕法粉碎機 | 流量* | 輸出 | 線速度 | 功率 | 入口/出口連接 |
類型 | l/h | rpm | m/s | kW | |
CMD 2000/5 | 3000 | 6,000 | 23 | 11 | DN40/DN32 |
CMD 2000/10 | 8000 | 4,200 | 23 | 22 | DN80/DN65 |
CMD 2000/20 | 20000 | 2,850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
CMD 2000/30 | 40000 | 1,420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
CMD2000/50 | 80000 | 1,100 | 23 | 110 | DN200/DN150 |
*流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性,同時流量可以被調節(jié)到#大允許量的10%。 |
1 表中上限處理量是指介質為“水”的測定數(shù)據(jù)。2 處理量取決于物料的粘度,稠度和#終產品的要求。3 如高溫,高壓,易燃易爆,腐蝕性等工況,bi須提供準確的參數(shù),以便選型和定制
現(xiàn)在有一種新型研磨分散機磨是由高剪切分散乳化機和膠(錐)體粉碎磨相結合的新型高科技專利產品,它以強大的生產能力和超越的先進性能,實現(xiàn)了粉碎、研磨、分散、乳化、均質、輸送為一體的多功能設備,從根本上解決了普通高剪切乳化機無法解決的技術難題,是目前的設備。
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