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納米粒子原位包覆高速分散工藝
IKN 2024/03/21 | 閱讀:1132
產(chǎn)品配置單: 方案詳情:
納米粒子原位包覆高速分散工藝 納米粒子原位包覆高速分散工藝 ,二氧化鈦納米粒子原位包覆高速分散工藝,二氧化硅納米粒子原位包覆高速分散工藝, 原位包覆高速分散 現(xiàn)有技術(shù)中功能性高聚物產(chǎn)品越來越多,它們大多通過在聚合物中 添加細(xì)小尺寸乃至納米級(jí)的無機(jī)粒子,使產(chǎn)品具有某些新功能。但是, 細(xì)小尺寸的無機(jī)粒子,特別是納米級(jí)的無機(jī)粒子,在使用過程中極容易 發(fā)生團(tuán)聚而影響其功能性的體現(xiàn)。隨著納米技術(shù)的日益發(fā)展,人們對(duì)納 米材料的要求也不斷提高,為了充分體現(xiàn)納米尺寸所特有的性能, 有效防止顆粒團(tuán)聚、提高分散性。粒子表面包覆便是因此而發(fā)展起來的 一項(xiàng)技術(shù),其主要原理是用表面添加劑與顆粒發(fā)生化學(xué)反應(yīng)或者表面吸 附,從而改變粒子的表面形態(tài),提高細(xì)小粒子特別是粉體的分散性能。
通常,納米無機(jī)粒子包覆是在得到納米粉體后再對(duì)其進(jìn)行機(jī)械分 散,然后進(jìn)行表面包覆處理。由于納米無機(jī)粒子具有的比表面積, 制備形成納米粉體后很容易團(tuán)聚在一起,而一旦發(fā)生團(tuán)聚就很難通過機(jī) 械方法使其再次分散成納米級(jí)的粒子了。正因如此,常規(guī)的納米無機(jī)粒 子表面包覆方法很容易出現(xiàn)分散不勻、表面包覆不均等問題。
作為生產(chǎn)中的一種重要添加劑,納米級(jí)無機(jī)粒子的表面包 覆技術(shù)成為近年來人們研究的一個(gè)熱點(diǎn)。據(jù)報(bào)道,“溶膠—凝膠法”制備納米的工藝研究;邢曦等人介紹 了近年來納米粒子表面包覆的方法和特點(diǎn),包括無機(jī)物包覆中沉降與表 面化學(xué)反應(yīng)法、聲化學(xué)法和納米粒子自組裝法等;孫予罕等人發(fā)明了一 種表面包膜氧化鋁的納米顆粒的制備方法,先采用“溶膠—凝膠法” 合成納米級(jí),然后再進(jìn)行氧化鋁包膜。
無機(jī)納米粒子原位生成的過程中同時(shí)進(jìn)行表面包覆、有 機(jī)分散處理,然后直接應(yīng)用到的生產(chǎn)過程中,形成無機(jī)納米粒子與 高聚物的有效復(fù)合體,實(shí)現(xiàn)納米粒子生成、表面包覆、分散使用的一步 法工藝。
影響分散結(jié)果的因素有以下幾點(diǎn)
1 分散頭的形式(批次式和連續(xù)式)(連續(xù)式比批次好) 2 分散頭的剪切速率 (越大,效果越好) 3 分散頭的齒形結(jié)構(gòu)(分為初齒,中齒,細(xì)齒,chao細(xì)齒,約細(xì)齒效果越好) 4 物料在分散墻體的停留時(shí)間,乳化分散時(shí)間(可以看作同等的電機(jī),流量越小,效果越好) 5 循環(huán)次數(shù)(越多,效果越好,到設(shè)備的期限,就bu能zai好) 線速度的計(jì)算 剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對(duì)速率。 – 剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s) g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m) 由上可知,剪切速率取決于以下因素: – 轉(zhuǎn)子的線速率 – 在這種請(qǐng)況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。 IKN 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm 速率V= 3.14 X D(轉(zhuǎn)子直徑)X 轉(zhuǎn)速 RPM / 60 高的轉(zhuǎn)速和剪切率對(duì)于獲得chao細(xì)微懸浮液是重要的。根據(jù)一些行業(yè)te殊要求,依肯公司在ER2000系列的基礎(chǔ)上又開發(fā)出ERS2000chao gao速分散機(jī)。其剪切速率可以chao過14000 rpm,轉(zhuǎn)子的速度可以da到40m/s。在該速度范圍內(nèi),由剪切力所造成的湍流結(jié)合研制的電機(jī)可以使粒徑范圍小到納米級(jí)。剪切力更強(qiáng),粒經(jīng)分布更窄。由于能量密度ji高,無需其他輔助分散設(shè)備。
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