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納米拋光材料的特性:
隨著現(xiàn)金電子產(chǎn)品,如集成電路,計算機硬盤,數(shù)字光盤,光通訊元件等性能的日益提高,許多部件表面要求達到超光滑。化學(xué)機械拋光(CMP)是目前廣泛應(yīng)用的全局平面化技術(shù)。納米拋光材料(納米磨粒)主要用于CMP過程,是化學(xué)機械拋光技術(shù)中關(guān)鍵的要素,其性能直接影響拋光后材料的表面質(zhì)量。近年來,隨著納米材料制備技術(shù)的發(fā)展,納米材料應(yīng)用于化學(xué)機械拋光的研究迅速發(fā)展。
納米級的拋光材料與傳統(tǒng)的拋光材料相比,具有以下特性:
(1) 拋光后表面質(zhì)量好,缺陷少。
(2) 亞納米級的超精拋光是在原子量級進行的,納米磨粒通過對被拋光工件表面原子的碰撞、摩擦、擴散、填充等,達到原子的去除,磨粒的粒度較?。{米級)利于獲得較低的表面粗糙度、較低的表面波紋度、較高的表面平整度以及較小的表面缺陷。傳統(tǒng)大粒子(如微米或者亞微米級)磨粒會引起過度的摩擦及碰撞,導(dǎo)致表面不平度較大和嚴重的表面損傷。
(3) 拋光液穩(wěn)定性好
(4) 粒子越小,粒子的布朗運動越強烈,越能阻止粒子因重力而引起的下沉,分散體系的穩(wěn)定性就約好。因而納米材料制成的拋光液沉降穩(wěn)定性大大優(yōu)于傳統(tǒng)的懸浮液。
納米拋光材料的種類與性能
納米拋光材料的種類和性能
常用的拋光材料主要有金剛石,氧化鋁,氧化硅,氧化鈰,氧化鈦,氮化硅,氧化鐵等。
納米氧化硅,納米氧化鋁是一種廣泛采用的納米拋光材料,具體詳詢蘇州優(yōu)鋯納米材料有限公司得到專業(yè)的解答。
納米拋光材料的應(yīng)用
化學(xué)機械拋光已成為眾多高新技術(shù),如大規(guī)模集成電路、平面顯示及超高精度機械加工中不可缺少的工業(yè)化生產(chǎn)過程,而且這一技術(shù)與許多相關(guān)技術(shù)結(jié)合,將在未來高技術(shù)產(chǎn)業(yè)中發(fā)揮越來越大的作用。隨著對表面質(zhì)量要求的日益提高,納米拋光材料面臨廣闊的發(fā)展機遇。目前,納米拋光材料主要應(yīng)用于集成電路,計算機,光學(xué)玻璃等制造中,正進一步拓展應(yīng)用到晶體,精密閥門、導(dǎo)電玻璃、機械磨具、陶瓷、金屬材料、微電極系統(tǒng)(MEMS)、寶石、平面顯示器以及廣島攝像機等表面高精加工中。