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產(chǎn)品概述：

小型冷水機(jī)主要針對(duì)實(shí)驗(yàn)儀器、應(yīng)用在化學(xué)，物理，光學(xué)等實(shí)驗(yàn)室儀器上配套，如：化學(xué)、生物領(lǐng)域：原子吸收、ICP、旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)儀、CCD、生物發(fā)酵罐、化學(xué)反應(yīng)器（合成器）等。

材料領(lǐng)域：電鏡、X射線衍射、X熒光、真空爐、鍍膜機(jī)、ICP刻蝕、各種半導(dǎo)體設(shè)備、疲勞試驗(yàn)機(jī)、化學(xué)沉積系統(tǒng)、原子沉積系統(tǒng)等等。

物理領(lǐng)域：激光器（各種型號(hào)）、磁場、各種分子泵以及包括材料領(lǐng)域使用的各種需水冷設(shè)備。

醫(yī)療器械：核磁共振、超導(dǎo)磁共振、直線加速器、CT、X光機(jī)

工業(yè)應(yīng)用：PCB鉆孔機(jī)、激光打標(biāo)  、激光切割、加工中心主軸等熱量大不大，對(duì)水質(zhì)和控溫精、度有特殊要求。機(jī)組配有流量保護(hù)，手動(dòng)添加水，適合純凈水，蒸餾水杜絕二次污染。

冷卻水循環(huán)裝置應(yīng)用領(lǐng)域：

化學(xué)、生物領(lǐng)域：氫氧測定儀、旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)儀、CCD、生物發(fā)酵罐、化學(xué)反應(yīng)器（合成器）等。

材料領(lǐng)域：石墨爐原子原子吸收、等離子光譜儀（ICP）真空鍍膜電鏡、X射線衍射儀、X熒光衍射儀、真空爐、鍍膜機(jī)、ICP刻蝕、各種半導(dǎo)體設(shè)備、疲勞試驗(yàn)機(jī)、離子減薄儀、離子束外延設(shè)備、氣相外延設(shè)備、化學(xué)沉積系統(tǒng)、原子沉積系統(tǒng)等等。

物理領(lǐng)域：激光器（各種型號(hào)）、磁場、超導(dǎo)、低溫探頭、各種分子泵以及包括材料領(lǐng)域使用的各種需水冷設(shè)備。

醫(yī)療器械：核磁共振、超導(dǎo)磁共振、直線加速器、CT、X光機(jī)

廣泛應(yīng)用于大學(xué)物理，材料，化學(xué)，生物，醫(yī)學(xué)等學(xué)院和科研機(jī)構(gòu)，研發(fā)中心及需要冷源場所。

三：儀器特點(diǎn)

1.先進(jìn)的制冷技術(shù)，質(zhì)量穩(wěn)定，可靠性高;寬廣的溫度范圍5℃～35℃之間任意調(diào)節(jié)。

2.采用微電腦版控制器，操作簡單，多種精度可以選擇（±0.1℃、±0.3℃、±0.5℃、±1℃等），

3.具備手動(dòng)添加水，適合純凈水/蒸餾水，杜絕二次污。

4.溫度可調(diào)，實(shí)現(xiàn)全自動(dòng)智能化控制 系統(tǒng)水溫，超高溫報(bào)警，水流，故障信號(hào)報(bào)警輸出，可定制遠(yuǎn)程控制

5、安全保護(hù)及指示功能一應(yīng)俱全，保證機(jī)組安全可靠運(yùn)行。

6.可接受客戶非標(biāo)制作，儀器結(jié)構(gòu)，尺寸，流量，溫度精度，壓力等噪音低、控溫精度高

四：使用注意事項(xiàng)：

1. 本機(jī)切勿使用腐蝕性液體：

2. 連接的電源制式與產(chǎn)品銘牌相符

3. 應(yīng)確保水位高于盤管

4. 水位高于盤管頂部，以免造成換熱不充分，

5. 為保持設(shè)備的工作正常，在設(shè)備的進(jìn)，出風(fēng)口必須保證有大于50MM以上的通風(fēng)空間，不得有雜物，垃圾等不允許堵住進(jìn)，出風(fēng)口