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引言：氣相二氧化硅是通過鹵硅烷在氫氧焰中高溫水解縮合而得到的一種超細粉體材料。分散性能好，分散后能形成“近乎**”的納米粒子三維網絡結構。那么ATS射流分散機和高壓均質機如何實現氣相二氧化硅的分散效果呢？氣相二氧化硅分散實驗操作、實驗結果請見正文內容。

實驗對象

灰色氣相二氧化硅液體（在白色二氧化硅里加入了其它成份），有一定的黏度。

實驗儀器

ATS高壓均質機

ATS射流分散機

激光粒度儀

實驗背景

氣相二氧化硅是通過鹵硅烷在氫氧焰中高溫水解縮合而得到的一種超細粉體材料。其粒徑很小，因此比表面積大，達到100～400m2/g，表面吸附力強，表面能大；化學純度高，SiO2含量不小于99.8％；分散性能好，分散后，可以形成“近乎**”的納米粒子三維網絡結構，使得它具有優(yōu)異的補強、增稠、觸變、防沉降、防流掛等性能。

實驗難點

1、氣相二氧化硅質地硬，極易磨閥座閥芯，ATS使用金剛石閥座閥芯，抗磨。

2、氣相二氧化硅有一定黏度，不易進料，ATS使用特殊進料模塊輔助進料，進料方便。

3、氣相二氧化硅分散目標高，D50要達到100-200nm，ATS使用射流+均質分散模塊，效果更快更好。

實驗目的

分散后得到穩(wěn)定的分散體系，且D50小于200nm

實驗工藝

1、ATS高壓均質機，采用**均質，控低溫處理；

2、ATS射流分散機，采用**均質，控低溫處理；

實驗結果

1、現象

ATS射流分散機處理后不掛壁，流動性良好。高壓均質機均質后流動表現弱于射流分散機。

        射流分散機處理后                                                                 高壓均質機處理后

2、粒徑測量

氣化二氧化硅初始粒徑 、均質機和分散機處理2次后的粒徑

氣化二氧化硅初始粒徑 、均質機和分散機處理6次后的粒徑

實驗小結

一般的商品氣相二氧化硅經機械力只能破壞彼此結合的范德華力，分散后的粒徑在100-300nm之間。ATS射流分散機能得到穩(wěn)定的分散體系，效果更好，粒徑更小，更值得推薦。

應用領域

氣相二氧化硅廣泛用于各行業(yè)，作為添加劑、催化劑載體，應用于石油化工，脫色劑，消光劑，橡膠補強劑，塑料充填劑，油墨增稠劑，金屬軟性磨光劑，絕緣絕熱填充劑，**日用化妝品填料及噴涂材料、醫(yī)藥、環(huán)保等各種領域。并為相關工業(yè)領域的發(fā)展提供了新材料基礎和技術保證。