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高分散性SiO_2/PMMA復(fù)合材料的制備與表征——納米SiO_2在MMA中的分散

編號:NMJS03173

篇名:高分散性SiO_2/PMMA復(fù)合材料的制備與表征——納米SiO_2在MMA中的分散

作者:邵建中; 袁艷; 張睿; 吳明華; 戚棟明;

關(guān)鍵詞:納米SiO2; 硅烷偶聯(lián)劑; 分散性; 甲基丙烯酸甲酯;

機構(gòu): 浙江理工大學(xué)生態(tài)染整技術(shù)教育部工程研究中心; 浙江理工大學(xué)先進紡織材料與制備技術(shù)教育部重點實驗室;

摘要: 用硅烷偶聯(lián)劑3-(甲基丙烯酰氧)丙基三甲氧基硅烷(MPS)對分散于乙醇中的納米SiO2進行偶聯(lián)改性,再通過介質(zhì)置換和原位本體聚合制得SiO2/甲基丙烯酸甲酯(MMA)單體分散液和SiO2/PMMA復(fù)合材料.紅外光譜分析(FTIR)和熱重分析(TG)結(jié)合洗提實驗考察了SiO2表面MPS的偶聯(lián)率和偶聯(lián)效率,透射電鏡(TEM)和動態(tài)激光粒度分析(DLS)考察了SiO2在乙醇、單體和聚合物基體中的分散狀態(tài),在此基礎(chǔ)上推測MPS在SiO2顆粒表面的表觀偶聯(lián)密度和偶聯(lián)形式,分析偶聯(lián)程度對單體和聚合物基體中不同粒徑SiO2分散性的影響.發(fā)現(xiàn)MPS主要以低聚物形式偶聯(lián)于SiO2顆粒表面;SiO2分散性主要與其表面MPS的表觀偶聯(lián)密度相關(guān),當(dāng)偶聯(lián)密度在1.3~5.6μmol.(m2.SiO2)-1范圍內(nèi)時,MPS偶聯(lián)完全,SiO2表面改性充分,相應(yīng)的SiO2顆?稍趩误w和聚合物基體內(nèi)達到初級粒子形式的高度均勻穩(wěn)定分散,且這種高分散性在實驗范圍內(nèi)基本不受SiO2含量的影響.

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