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基于相控外差干涉技術的納米定位方法的研究

編號:NMJS03261

篇名:基于相控外差干涉技術的納米定位方法的研究

作者:許素安; 李東升; Chassagne Luc; Topcu Suat;

關鍵詞:納米定位; 相位控制; 外差干涉儀;

機構: 中國計量學院機電工程學院; 中國計量學院計量測試工程學院; LISV,University of Versailles Saint-Quentin,Versailles cedex;

摘要: 針對工業(yè)領域和計量界對定位精度要求的提高,提出了一種基于邁克爾遜干涉儀反向特性的定位控制方法。該方法采用相位鎖定控制和外差干涉技術來完成位置測量和控制。在嚴格控制實驗環(huán)境條件下,得到了步距值為5 nm的雙向步進位移。步距值的不確定度為8×10-9 nm,位移重復性誤差小于1 nm。該定位方法的測量尺寸可直接溯源至長度標準,并且采用光電步進相移法可克服壓電陶瓷的非線性和蠕變的機械缺陷。該方法在系統環(huán)境控制條件下適用于毫米行程位移,可應用于納米計量和超精密加工等領域。

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