編號：FTJS03477
篇名：激光熔覆Ta-W合金涂層工藝方法研究
作者：武揚； 虞鋼； 何秀麗； 寧偉��； 鄭彩云； 張永杰；
關(guān)鍵詞：激光技術(shù)； 激光熔覆； 預(yù)置粉末； 同軸送粉； Ta-W合金； 顯微組織；
機構(gòu)： 中國科學(xué)院力學(xué)研究所先進(jìn)制造工藝力學(xué)實驗室；
摘要： 采用預(yù)置涂層和同軸送粉激光熔覆方法,分別以Ta/W混合粉末和純W粉末為熔覆材料,純Ta為基底,在Ta板上制備Ta-W合金涂層,對難熔金屬材料的激光熔覆工藝方法進(jìn)行了對比研究。利用掃描電鏡(SEM)、能譜儀(EDS)及顯微硬度計對兩種方法所制備熔覆層的微觀組織和顯微硬度進(jìn)行了分析。結(jié)果表明,預(yù)置粉末法激光熔覆層厚度均勻,稀釋率低,涂層內(nèi)部為粗大的Ta-W合金固溶體組織,熔覆層平均硬度為1500HV,高于基底10倍。同軸送粉法激光熔覆層與基底呈良好的冶金結(jié)合,熔深較大,涂層內(nèi)部為致密細(xì)小的樹枝狀Ta-W合金固溶體,均勻分布于Ta中。涂層平均硬度為800HV,為基材的5倍。
