編號:NMJS03385
篇名:硅烷偶聯(lián)劑KH-560改性納米二氧化硅
作者:劉會媛; 李德玲; 李星;
關(guān)鍵詞:納米二氧化硅; 烷偶聯(lián)劑; 接枝改性;
機構(gòu): 唐山師范學(xué)院化學(xué)系;
摘要: 用硅烷偶聯(lián)劑KH-560對納米SiO2樣品表面進行接枝改性研究?疾炝思{米SiO2的用量、KH-560百分含量、改性溫度以及改性時間對改性效果的影響。采用紅外光譜、熱重分析手段對表面改性前后的納米SiO2進行表征。納米SiO2最佳工藝改性條件:納米SiO2用量4%,KH-560百分含量2%,改性溫度90°C,改性時間6 h。