編號：NMJS03537
篇名：氧化硅基FeOOH/TiO_2納米復(fù)合膜的自組裝制備與表征
作者：周堯； 孫振亞；
關(guān)鍵詞：自組裝； TiO2； FeOOH； 納米薄膜； HRTEM；
機(jī)構(gòu)： 青島科技大學(xué)自動(dòng)化與電子工程學(xué)院； 武漢理工大學(xué)材料研究與測試中心；
摘要： 以氧化硅(SiO2)為基底,在其上組裝磺酸根(SO3H)為外側(cè)功能團(tuán)的自組裝分子單層。以此為模板,先后采用TiCl4-HCl液相反應(yīng)體系和FeNO3-HNO3液相反應(yīng)體系誘導(dǎo)制備了FeOOH/TiO2復(fù)合薄膜。通過SEM和HRTEM對該薄膜表征,確定它們分別屬于銳鈦礦和針鐵礦(α-FeOOH)結(jié)構(gòu),并對其生長機(jī)理進(jìn)行了探討。TiO2薄膜的形成與基底磺酸基團(tuán)之間的相互作用有關(guān),α-FeOOH的形成既受基底單分子層磺酸基團(tuán)的調(diào)控,也受到TiO2表面鍵的化學(xué)作用,HRTEM觀察到納米銳鈦礦和針鐵礦二者可通過合適的界面如TiO2-(004)/(111)-α-FeOOH共晶生長。
