編號(hào)：FTJS03655
篇名：濺射功率對(duì)氧化鋁薄膜結(jié)構(gòu)和光學(xué)性能的影響
作者：唐曉紅； 黃美東； 王麗格； 杜姍； 劉春偉
關(guān)鍵詞：氧化鋁薄膜； 射頻磁控濺射； 晶體結(jié)構(gòu)； 光學(xué)性能； 濺射功率； 折射率； 消光系數(shù)
機(jī)構(gòu)： 天津師范大學(xué)物理與電子信息學(xué)院
摘要： 采用射頻反應(yīng)磁控濺射法,在K9雙面拋光玻璃基底上制備了一系列不同濺射功率的Al2O3薄膜,并對(duì)部分薄膜進(jìn)行退火處理.利用X線(xiàn)衍射法對(duì)Al2O3薄膜退火前后的晶體結(jié)構(gòu)進(jìn)行分析,采用橢圓偏振光譜儀對(duì)薄膜的厚度、折射率和消光系數(shù)進(jìn)行測(cè)試和擬合.實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明:測(cè)射功率在100~300 W時(shí),沉積的Al2O3薄膜退火前后均為非晶態(tài);薄膜在可見(jiàn)光范圍內(nèi)具有良好的透光性能,透射率接近90%,為透明膜;薄膜的沉積速率隨濺射功率的增大而增大;薄膜在可見(jiàn)光波段的折射率n隨波長(zhǎng)的增大而減小,平均值隨濺射功率的增大呈現(xiàn)出先增大后減小的變化趨勢(shì);薄膜消光系數(shù)k的平均值亦隨濺射功率的增大呈現(xiàn)先增大后減小的變化趨勢(shì). 更多還原
