編號：NMJS03599
篇名：一種太陽電池納米陷光結(jié)構(gòu)的制備方法
作者：張福慶1； 郭立強(qiáng)1； 凌智勇1； 張忠強(qiáng)1； 袁寧一2； 3； 丁建寧1； 2； 3
關(guān)鍵詞：陷光； 石墨納米顆粒； 金屬輔助化學(xué)刻蝕； 減反射； 形貌
機(jī)構(gòu)： (1.江蘇大學(xué) 機(jī)械工程學(xué)院,微納米實(shí)驗(yàn)中心,江蘇 鎮(zhèn)江212013； 2.常州大學(xué) 材料學(xué)院,低維材料、微納器件與系統(tǒng)中心,江蘇 常州213164； 3.常州大學(xué) 材料學(xué)院,江蘇省太陽能材料與技術(shù)實(shí)
摘要： 提出了一種利用石墨納米顆粒作為掩膜,通過金屬輔助刻蝕來制備具有低反射率的太陽電池納米陷光結(jié)構(gòu)的方法。用該方法制得了一種表面覆蓋有納米線和納米孔的太陽電池納米陷光結(jié)構(gòu)。結(jié)合金屬輔助刻蝕的機(jī)制和這種陷光結(jié)構(gòu)的形成原理,分析了石墨納米顆粒和H2O2濃度對陷光結(jié)構(gòu)形貌的影響,并討論了陷光結(jié)構(gòu)的形貌對樣品陷光性能的影響。最后,制得了在300~1100nm波長范圍內(nèi)平均反射率僅為3.6%的太陽電池陷光層。
