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硅納米線陣列的制備及光伏性能

編號:NMJS03642

篇名:硅納米線陣列的制備及光伏性能

作者:蔣玉榮; 秦瑞平; 蔡方敏; 楊海剛; 馬恒; 常方高

關鍵詞:硅納米線陣列; 無電極金屬催化法; 光譜反射率; 光伏特性

機構(gòu): 1. 河南師范大學物理與信息工程學院,河南 新鄉(xiāng) 453007; 2. 河南省光伏材料重點實驗室,河南 新鄉(xiāng) 453007;

摘要: 在常溫常壓下,采用無電極金屬催化化學腐蝕法在 P 型單晶硅片(100)基底上制備定向排列的硅納米線陣列。研究了不同濃度硝酸銀對納米線陣列形貌、反射光譜性能的影響和具有電池雛形的硅納米線陣列的光伏性能。結(jié)果表明:硝酸銀濃度在 0.02mol/L 時為最佳配比;與普通絨面電池相比,硅納米線陣列太陽能電池的光電轉(zhuǎn)換性能明顯優(yōu)于普通絨面電池。用光譜響應分析手段分析硅納米線電池光伏性能的影響因素,并提出解決辦法。

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