編號：NMJS03753
篇名：氧化錫納米線的光致發(fā)光性能分析
作者：李立珺；
關鍵詞：氧化錫； 納米線； 光致發(fā)光；
機構(gòu)： 西安郵電大學電子工程學院；
摘要： 通過熱蒸發(fā)沉積法在常壓、900°C高溫條件下,合成了氧化錫納米線結(jié)構(gòu)。利用掃描電子顯微鏡、透射電子顯微鏡及選區(qū)電子衍射對樣品的表面形貌和微結(jié)構(gòu)進行了表征,X射線衍射、傅里葉變換紅外光譜進一步證明所制納米結(jié)構(gòu)為金紅石型氧化錫單晶結(jié)構(gòu)。在77K和300K溫度條件下,研究了所制氧化錫納米線及其在氧氣氣氛中退火后的光致發(fā)光性能。
