編號：NMJS03826
篇名：均勻沉淀法制備納米氧化鎂工藝研究
作者：高志謹(jǐn)； 秦兵杰； 馮國琳；
關(guān)鍵詞：納米氧化鎂； 粒徑； 均勻沉淀法；
機(jī)構(gòu)： 中北大學(xué)化工與環(huán)境學(xué)院； 衡水學(xué)院應(yīng)用化學(xué)系；
摘要： 以氯化鎂為原料,尿素為沉淀劑,聚乙二醇辛基苯基醚(OP-10)為表面活性劑,采用均勻沉淀法制備了納米氧化鎂�？疾炝随V離子濃度、反應(yīng)物配比、反應(yīng)溫度、煅燒溫度、煅燒時間對氧化鎂粒徑的影響。采用熱重分析儀對前驅(qū)體氫氧化鎂進(jìn)行了表征,采用X射線衍射儀和掃描電鏡對氧化鎂進(jìn)行了表征。結(jié)果表明,在鎂離子的濃度為1.5mol/L;反應(yīng)物配比為4:1;反應(yīng)溫度為110℃;煅燒溫度為500℃;煅燒時間為3h時,所得氧化鎂粒徑最小,為18nm,且粒徑分布均勻,晶型為立方晶系。
