編號：NMJS03829
篇名：納米結(jié)構(gòu)黑鎳薄膜的電沉積制備及其電化學(xué)行為(英文)
作者：李建梅； 蔡超； 宋利曉； 李勁風(fēng)； 張昭； 薛敏釗； 劉燕剛；
關(guān)鍵詞：電沉積； 納米黑鎳薄膜； 腐蝕；
機構(gòu)： 上海交通大學(xué)化學(xué)化工學(xué)院； 中南大學(xué)材料科學(xué)與工程學(xué)院； 浙江大學(xué)理學(xué)院化學(xué)系；
摘要： 采用電沉積方法制備具有整體納米結(jié)構(gòu)的黑鎳鍍層,并通過肉眼觀察結(jié)合掃描電鏡、X射線衍射等測試技術(shù)研究電沉積過程中的主要參數(shù)(電解液pH、攪拌速度、制備溫度及電流密度)對鍍層顏色及整體微觀結(jié)構(gòu)的影響。進一步采用動電位極化及電化學(xué)阻抗等電化學(xué)測量技術(shù)研究黑鎳鍍層在中性3.5%NaCl溶液中的腐蝕行為及腐蝕機理。結(jié)果表明:黑鎳鍍層的顏色變化趨勢決定于電沉積制備參數(shù)的選擇;通過優(yōu)化本工藝制備的黑鎳鍍層平均粒徑約為50 nm。對比了近似條件下制備的光亮鎳鍍層,發(fā)現(xiàn)黑鎳鍍層在耐蝕性方面具有較大優(yōu)勢。
