編號：NMJS03875
篇名：界面對ZrN/TaN納米多層膜固氦性能的影響
作者：王飛； 劉望； 鄧愛紅； 朱敬軍； 安竹； 汪淵；
關(guān)鍵詞：ZrN/TaN； 納米多層膜； 界面； 固氦；
機(jī)構(gòu)： 四川大學(xué)原子核科學(xué)技術(shù)研究所,教育部輻射物理及技術(shù)重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室； 四川大學(xué)物理科學(xué)與技術(shù)學(xué)院物理系；
摘要： 采用射頻磁控濺射方法,在混合氣氛下制備了ZrN/TaN多層膜利用X射線衍射、慢正電子束分析、增強(qiáng)質(zhì)子背散射、掃描電子顯微鏡,分別對ZrN/TaN多層膜中相結(jié)構(gòu)、氦相關(guān)缺陷、氦含量、截面形貌等進(jìn)行了分析.結(jié)果表明,調(diào)制周期為30nm的ZrN/TaN多層膜在600C退火后,氦的保持率仍能達(dá)到45.6%.在適當(dāng)?shù)恼{(diào)制周期下,ZrN/TaN多層膜能夠耐氦損傷并且其界面具有一定的固氦性能.
