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不同等離子體體系中納米金剛石薄膜制備的研究

編號:NMJS04144

篇名:不同等離子體體系中納米金剛石薄膜制備的研究

作者:李偉; 汪建華; 周詳

關鍵詞:納米金剛石薄膜; 微波等離子; 化學氣相沉積

機構: 武漢工程大學湖北省等離子體化學與新材料重點實驗室; 中國科學院等離子體物理研究所

摘要: 利用微波等離子體化學氣相沉積(MPCVD)法分別在CH4/H2/Ar體系、CH4/H2/O2體系和C2H5OH/H2體系中進行納米金剛石(NCD)薄膜的制備研究。采用原子力顯微鏡(AFM)和激光拉曼光譜(Raman)等方法對不同體系中制備得到的NCD薄膜的表面形貌及其質(zhì)量進行了檢測。結果表明:在CH4/H2體系中添加O2對于促進高平整度NCD薄膜的效果明顯優(yōu)于添加Ar;C2H5OH/H2體系更有利于制備顆粒更細、金剛石相含量更高的NCD薄膜。利用等離子體CVD技術的相關理論對上述結論進行了理論分析。

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