編號(hào)：NMJS04618
篇名：Al/Ni和Al/Ti納米多層薄膜制備與表征
作者：李東樂(lè)； 朱朋； 付帥； 沈瑞琪； 葉迎華； 華天麗；
關(guān)鍵詞：軍事化學(xué)與煙火技術(shù)； Al/Ni納米多層薄膜； Al/Ti納米多層薄膜； 磁控濺射； 結(jié)構(gòu)表征； 熱分析；
機(jī)構(gòu)： 南京理工大學(xué)； 海軍駐昆明地區(qū)軍事代表辦事處；
摘要： 用磁控濺射法制備了Al/Ni、Al/Ti納米多層薄膜。用場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡(FESEM)、原子力顯微鏡(AFM)和X-射線衍射儀(XRD)對(duì)其進(jìn)行了結(jié)構(gòu)表征和成分分析。用差示掃描量熱法(DSC)測(cè)定了納米多層薄膜的反應(yīng)放熱量。結(jié)果表明:工作壓力為0.4 Pa,Al、Ni、Ti濺射功率分別為200,220,180 W條件下制備的Al/Ni、Al/Ti多層薄膜表面均勻致密,無(wú)尖銳峰,層狀結(jié)構(gòu)分明,組成成分分別為Al、Ni和Al、Ti單質(zhì)狀態(tài);Al/Ni、Al/Ti多層薄膜放熱量分別為1134.64,918.36 J·g-1,達(dá)到理論值的82.2%,80.7%。
