編號(hào)：NMJS04719
篇名：紫外納米壓印OLED襯底微結(jié)構(gòu)的模板制備
作者：李陽(yáng)； 徐維； 王憶； 陳奎； 朱銘佳； 潘雅雯； 梁景生
關(guān)鍵詞：有機(jī)發(fā)光二極管(OLED)； 紫外納米壓��； 電子束光刻(EBL)； 模板； 微結(jié)構(gòu)
機(jī)構(gòu)： 五邑大學(xué)應(yīng)用物理與材料學(xué)院； 西安交通大學(xué)先進(jìn)制造技術(shù)研究所
摘要： 采用紫外納米壓印工藝,在有機(jī)發(fā)光二極管(OLED)襯底上制備三維立體微結(jié)構(gòu),可以有效提高器件的出光效率,增加器件發(fā)光亮度。而有效實(shí)施納米壓印工藝的先決條件是納米壓印模板的制備。首先在沉積有金屬Cr薄膜阻擋層(厚度為20 nm)的石英基片上旋涂一層電子敏感光刻膠,然后通過(guò)電子束光刻(EBL)技術(shù)進(jìn)行曝光、顯影,在光刻膠上形成三維納米微結(jié)構(gòu)圖案。再利用反應(yīng)離子刻蝕技術(shù)和濕法腐蝕技術(shù)相結(jié)合的方法進(jìn)行圖形的轉(zhuǎn)移,將光刻膠上的納米微結(jié)構(gòu)轉(zhuǎn)移至石英基片上。通過(guò)以上方法制備的納米壓印模板,其微結(jié)構(gòu)具有較好的分布均勻性,可以滿足紫外納米壓印技術(shù)制備微結(jié)構(gòu)的工藝要求。
