編號(hào)：NMJS04790
篇名：Ni-WC納米復(fù)合鍍層的制備及鈍化性能研究
作者：武占文； 陳吉； 樸楠； 楊明川；
關(guān)鍵詞：納米復(fù)合鍍層； Ni-WC； 腐蝕； 鈍化膜； 硬度
機(jī)構(gòu)： 遼寧石油化工大學(xué)機(jī)械工程學(xué)院石油化工過(guò)程腐蝕與防護(hù)技術(shù)中心； 中海油能源發(fā)展股份有限公司管道工程分公司； 沈陽(yáng)理工大學(xué)裝備工程學(xué)院；
摘要： 利用直流復(fù)合電鍍方法將WC納米顆粒均勻分散到Ni鍍層,用微米壓痕儀測(cè)試了鍍層的力學(xué)性能,用動(dòng)電位極化曲線研究了鍍層在pH=9.0的0.05 mol/L H3BO3+0.075 mol/L Na2B4O7緩沖溶液中的電化學(xué)性能.結(jié)果表明,與純Ni鍍層相比,納米復(fù)合鍍層的晶粒尺寸顯著減小,約為21 nm;硬度提高了81%,達(dá)到651 HV;自腐蝕電流密度降低約一個(gè)數(shù)量級(jí),約為1.29×10-7A/cm2;破鈍電位基本一致,但致鈍電位（10 mV）更低,維鈍電流密度(1.79×10-6A/cm2)更小,僅為純Ni鍍層的1/7.利用Mott-Schottky理論結(jié)合點(diǎn)缺陷模型分析表明:表面鈍化膜仍具有p型半導(dǎo)體特征,WC納米顆粒顯著降低基體Ni的晶粒尺寸,引起鈍化膜中點(diǎn)缺陷密度和擴(kuò)散系數(shù)的降低.
