編號：NMJS04891
篇名：工藝參數(shù)對Ni-TiN納米復(fù)合鍍層形貌的影響
作者：于明明； 李洪友；
關(guān)鍵詞：納米TiN微粒； 超聲波-雙脈沖； 復(fù)合電沉積； 工藝參數(shù)； 表面形貌；
機構(gòu)： 華僑大學(xué)機電及自動化學(xué)院；
摘要： 采用超聲波-雙脈沖電沉積法,在不銹鋼基體上制備Ni-TiN納米復(fù)合鍍層。研究了超聲波功率、脈沖電源參數(shù)、TiN的質(zhì)量濃度等工藝參數(shù)對復(fù)合鍍層表面形貌的影響。得到最佳的工藝參數(shù)為:TiN 10g/L,鍍液溫度40~50℃,pH值3.5~4.0,正向脈沖電流密度5A/dm2,反向脈沖電流密度0.5A/dm2,占空比1/2,超聲波功率200W。
