編號：CPJS01963
篇名：碳酸氫銨沉淀法制備少釹碳酸稀土粒度研究
作者：柳凌云； 劉磊； 謝軍； 代永久； 趙軍； 許國華； 王永利；
關(guān)鍵詞：少釹碳酸稀土； 碳酸氫銨； 沉淀； 粒度；
機構(gòu)： 包頭華美稀土高科有限公司；
摘要： 研究了碳酸氫銨沉淀法制備中位徑D50=20μm~30μm少釹碳酸稀土的工藝條件,主要探討了少釹氯化稀土料液濃度、沉淀溫度和晶種添加量對少釹碳酸稀土粒度大小的影響。結(jié)果表明,在不添加晶種、少釹氯化稀土濃度0.8 mol/L,碳酸氫銨濃度2.1 mol/L,沉淀溫度25±2℃的條件下,可以制得D50=20μm~30μm,且其他指標(biāo)符合客戶要求的少釹碳酸稀土。
