編號(hào)：FTJS04227
篇名：偏壓占空比對(duì)類石墨碳薄膜摩擦學(xué)性能的影響
作者：王永欣； 趙文杰； 李金龍； 王立平； 陳建敏
關(guān)鍵詞：GLC薄膜； 偏壓占空比； 摩擦學(xué)性能
機(jī)構(gòu)： 中國科學(xué)院寧波材料技術(shù)與工程研究所表面工程事業(yè)部
摘要： 利用磁控濺射技術(shù)在不同偏壓占空比條件下制備類石墨碳(Graphite-like carbon,GLC)薄膜,采用掃描電子顯微鏡、Raman光譜、X射線光電子能譜、納米壓痕儀等分析薄膜的結(jié)構(gòu)和機(jī)械性能,采用球-盤往復(fù)摩擦方式考察薄膜在大氣及去離子水中的摩擦學(xué)性能。結(jié)果表明:大氣環(huán)境中,GLC薄膜的摩擦因數(shù)和磨損率隨偏壓占空比的升高而逐漸降低;水環(huán)境中,GLC薄膜的摩擦因數(shù)隨偏壓占空比的逐漸升高先降低后輕微升高,低占空比條件下GLC薄膜在水環(huán)境中摩擦接觸面出現(xiàn)局部剝落,而高占空比條件下GLC薄膜可表現(xiàn)出低于干摩擦的穩(wěn)定磨損;當(dāng)占空比為50%~65%時(shí),GLC薄膜在水環(huán)境中的摩擦學(xué)性能最佳。
